創新之光耀中華

劉玉嶺教授，博士生導師，第九屆、第十屆、第十一屆全國政協委員，國家級有突出貢獻中青年專家。他治學嚴謹，學風正派，創新成果業績突出：以他為第一發明人，獲得國家發明獎5項，省部級科技發明與進步獎21項，取得發明專利57項，美國發明專利3項；出版專著5部，發表論文200余篇。他還很注重對學生的培養，在他的悉心教導下培養碩士、博士、博士后共百余名；以他為學術帶頭人的微電子學科是碩士、博士、博士后等高層次人才培養的省級重點學科。這一切源于他對祖國科技事業執著追求和孜孜不倦的創新精神。

走近劉玉嶺，看到的是他輝煌的創新歷程：1979年我國引進日本11條IC生產線，其硅襯底拋光材料需要由日本不二見株式會社進口。劉玉嶺看在眼里急在心里，針對該產品黏度大、結塊、高鈉離子污染環境等問題，發明了懸浮性好、無鈉離子、不揮發、易清洗的FNO-MOS型拋光液，價格僅為日本的十分之一，該成果獲天津科技成果二等獎，國家發明四等獎；2000年劉玉嶺發明的以化學作用絡合胺化為技術路線堿性CMP材料與相應工藝技術，低于目前世界花數億元巨資研發的電化學拋光（ECMP）機械壓力的三分之一，為GLSI向45nm以下產業化發展做出創造性貢獻，該技術已獲國家發明專利54項，克服了占世界主導市場的酸性漿料強機械研磨后溶解機理模型存在的速率低、機械作用大、工藝復雜等難題；他在“ULSI襯底表面潔凈技術”研究中，首次提出了優先吸附理論及數學模型：t=Kr2/f1f2S；發明了“專用界面活性劑處理晶片表面吸附物技術”，使吸附物處于物理吸附狀態的時間延長了30倍以上，并采用集中清洗，提高了效率，節省了試劑。該技術已在洛陽740、有研硅股等企業規模應用，僅刷片機一項，可節省3936萬元，專家鑒定該項技術為國際領先水平，獲國家發明專利，天津市發明二等獎，國家發明三等獎，2000年被科技部列為國家級科技成果重點推廣計劃和國家級新產品。目前，新研制的半導體膜電-化清洗技術應用于GLSI清洗工藝，同時去除有機物與金屬離子沾污，既節能又環保。

在這些發明專利中最讓他驕傲的技術是“FA/O均腐蝕拋光液與拋光技術”。由于采用自己研發的多功能強絡合劑（同時作pH調節劑，緩蝕劑），有效控制了重金屬雜質沾污，洛陽鼎晶半導體材料公司用此拋光液加工的IC襯底片成為唯一最可靠的“神五”、“神六”、“神七”專用電路硅襯底，為航天事業作出貢獻，獲國家發明三等獎，被國家5部委審評為國家級新產品，被國家科委列為國家科技成果重點推廣計劃。

在劉玉玲的科研之路上，一直堅持產學研用相結合，他領銜創建了與微電子技術與材料相結合的產學研實體，建立6000噸表面加工耗材生產線，產品已在京、津、滬、浙等十多個省市的引進生產線上取代了進口，進行新技術培訓1000余人次。臺灣廣潤科技公司、臺灣弘弦科技公司、國家工程物理九院、洛陽空空導彈研究院、電子45所等眾多企業與他簽訂了技術協議。他還是國家中長期科技發展重大專項項目、國家重點安全基金NSAF等項目的技術負責人。他長期為大中企業的第一線解決新技術問題。在科研成果推廣中培訓技術人員1000余人次。

劉玉嶺教授作為我國微電子技術與材料CMP超精細領域技術帶頭人，在國內外享有較高的聲譽。國際CMP耗材最有影響的多家專業公司多次提出買斷該技術，目前由中芯國際支持的以劉玉嶺教授為負責人的國家重大專項“極大規模集成電路平坦化材料與技術”已進入產業化階段，產品在理論、方法、路線和材料方面均實現了創新，性能提高，工藝簡化，成本低，環境友好。2012年獲國家02專項驗收成績優秀，該團隊成為100多個承擔項目單位中五個優秀團隊之一。硅、藍寶石等產品已在中國華晶、華微等30多條引進生產線上規模化應用，代替進口產品，取得經濟效益超過億元。劉玉嶺教授無疑是科學家，但他同時又是企業家、實干家，他的創新之光照耀中國走向世界的同時，也為祖國帶來了巨大的經濟效益。