摘 要:與傳統的有機污染處理方法相比,光催化技術降解速度更快,降解程度更大,因而半導體光催化技術作為一種污染治理的新技術越來越受到人們的重視。本文綜述了納米三氧化鎢光催化材料的研究現狀,提出了提高納米三氧化鎢光催化性能的方法以及未來發展方向。
關鍵詞:WO3 光催化劑 納米材料 研究進展
中圖分類號:TB3文獻標識碼:A 文章編號:1674-098X(2013)04(c)-0017-02
隨著日益嚴重的環境問題和新能源的需求,光催化技術因其在環境污染凈化、能源再生方面的應用和前景十分廣泛兒備受關注。光催化技術由于具有可在室溫下直接利用太陽光將各類有機污染物完全礦化,無二次污染等獨特性能而成為一種理想的環境污染治理技術成為近年來國內外最活躍的研究領域之一[1]。近年來,隨著半導體光催化材料的快速發展,WO3作為光催化材料引人注目。與常用的光催化劑TiO2、ZnO等相比,WO3具有較小的禁帶寬度和較大的光吸收范圍,能更有效地利用占太陽輻射能量近一半的可見光,其體積效應、表面效應、量子尺寸效應和宏觀量子隧道效應顯著[2]。雖然WO3制備工藝簡單,帶隙能小(約為2.5eV),能吸收波長小于500 nm的可見光,具有潛在的光催化能力[3],但是純WO3由于存在易光腐蝕,對可見光利用率低等缺陷而很難獲得穩定的光催化性能,因此,如何提高光催化降解性能的研究具有重要意義,摻雜等技術有利于提高光催化活性[4]。
1 提高納米WO3的光催化性能的方法
1.1 金屬離子摻雜……p>