摘 要: 基于GaAs襯底PHEMT工藝的新一代微波器件,具有截止頻率高,增益大以及效率高的特點,該工藝更適合于微波頻率的應用。采用WIN半導體公司的0.15 μm PHEMT工藝設計了工作在29~31 GHz Ka波段單片集成功率放大器,電路采用RC并聯網絡實現穩定性能,三級放大結構滿足功率增益在30 GHz處為27 dB,輸出1 dB壓縮點功率為30 dBm,輸入駐波比小于1.5,功率附加效率為35%。電路采用6 V電源供電,芯片面積為2.30 mm×1.23 mm。最后設計通過仿真,得出在30 GHz的時候,P1dB輸出功率達到30.4 dBm,PAE為35%,輸入駐波比為1.26,功率增益為27 dB左右。在整個頻段里面穩定系數遠大于1,整個電路利用RC并聯穩定網絡實現了無條件穩定,達到了設計的要求。
關鍵詞: Ka波段; PHEMT; MMIC; 功率放大器
中圖分類號: TN911?34 文獻標識碼: A 文章編號: 1004?373X(2013)04?0127?03