摘要:在大面積磁控濺射玻璃鍍膜中,使用等離子清洗技術(shù)可以有效地清潔靶面和陽極表面,徹底解決使用平面磁控濺射陰極進(jìn)行反應(yīng)性濺射時(shí)的“靶中毒”和“陽極消失”兩個(gè)問題。
關(guān)鍵詞:等離子;玻璃鍍膜;清洗技術(shù)
中圖分類號(hào):TB43 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1674-7712 (2012) 10-0229-01
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