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C-276合金在650℃/25MPa超臨界水中的腐蝕行為

2011-09-18 05:54:22李海豐范洪遠邱紹宇
原子能科學技術(shù) 2011年7期
關(guān)鍵詞:分析

李海豐,范洪遠,張 強,邱紹宇,王 均

(1.四川大學 制造科學與工程學院,四川 成都 610065;2.中國核動力研究設(shè)計院 核燃料及材料國家級重點實驗室,四川 成都 610041)

鎳基合金是用于超臨界水冷堆(SCWR)的較好材料[1],但其腐蝕問題是開發(fā)SCWR的一個關(guān)鍵問題[2],目前國內(nèi)外的研究[3-6]主要著重于鎳基合金與其它材料在超臨界水(SCW)中的耐蝕性的比較,為了滿足在SCWR中安全服役的要求,首先要了解鎳基合金在SCW中的腐蝕行為和機理。Hastelloy C-276(簡稱C-276)是目前報道的耐SCW腐蝕性能較好的鎳基合金[7],本文研究C-276 在650℃/25MPa去離子水中的均勻腐蝕行為。使用場發(fā)射掃描電鏡(FEG-SEM)、X射線能譜儀(EDS)、掠射 X射線衍射(GIXRD)和 X射線光電子能譜(XPS),分析不同腐蝕時間氧化膜的顯微形貌、組織結(jié)構(gòu)與合金元素分布,基于上述顯微分析,討論C-276合金在SCW中的氧化膜生長機理。

1 實驗

實驗所用C-276板材(從 Haynes公司購買)的化學成分列于表1。

表1 Hastelloy C-276合金化學成分Table 1 Chemical composition of Hastelloy C-276

將C-276板材加工成中心帶孔(φ2mm)的片狀試樣,尺寸為40mm×20mm×2mm。試樣的每個表面在磨拋機上依次用400#、800#、1200#水砂紙打磨,然后用氧化鋁拋光粉拋光至鏡面,在丙酮中用超聲波清洗去污,再用去離子水沖洗。干燥后用游標卡尺測量試樣尺寸,并用精度為0.1mg的電子天平稱重。每3個試樣分為1組,共5組,各組試樣腐蝕時間分別為200、400、600、800、1 000h。腐蝕實驗采用2L高壓釜,實驗設(shè)定溫度為650℃,壓力25MPa,腐蝕介質(zhì)為高純中性水(通過N2除氣),電導(dǎo)率小于1μS/cm。

每個腐蝕周期結(jié)束后,取出部分樣品用于氧化膜分析。采用NANO400掃描電鏡(SEM)觀察氧化膜表面及截面形貌,并用X射線能譜儀(EDS)分析氧化膜中合金元素分布。采用 X’Pert PRO MRD X 射線衍射儀(Cu靶)分析氧化膜物相組成。采用ESCALAB 250X射線光電子能譜(結(jié)合Ar離子濺射)獲得氧化膜中合金元素的結(jié)合能,以分析推測合金元素沿氧化膜厚度方向的深度分布。采用ESJ180-4電子天平(精度0.1mg)測量樣品質(zhì)量變化(3個平行試樣)。

2 結(jié)果及分析

2.1 氧化膜形貌觀察

實驗結(jié)束后取出試樣,目視觀察到C-276合金表面有黑色氧化膜形成。對經(jīng)超臨界水腐蝕200、600、1 000h后的試樣氧化膜表面進行SEM觀察,結(jié)果示于圖1。

圖1 腐蝕試樣的氧化膜表面形貌Fig.1 SEM images of exposed samples

從圖1可知,氧化膜的表面經(jīng)歷了由團簇狀氧化物(200h)長成棱角明顯、界線分明的多面體顆粒(600h),再到輪廓清晰、大小在375~750nm之間的多面體顆粒(1 000h)的過程。由于顆粒的大小不一,雜亂分布,使得氧化膜表面散亂而疏松。仔細觀察發(fā)現(xiàn),大顆粒下面還密集分布著均勻大小的細小多面體顆粒,粒度約為200nm,說明氧化膜出現(xiàn)了分層。有報道[8]指出,外層的大顆粒氧化物在切割及超聲波清洗時有一部分發(fā)生了剝落,其粘附性差,說明氧化膜的外層對合金缺乏保護性。

2.2 氧化膜結(jié)構(gòu)分析

圖2為C-276合金氧化膜截面的SEM觀察和EDS成分分析結(jié)果,為防止氧化膜脫落,在截面分析前先鍍1層Ni保護層[8],再用樹脂鑲嵌制成斷面磨片。

由圖2a可知,合金表面生成的氧化膜在形貌上表現(xiàn)為雙層結(jié)構(gòu)。外層厚度均勻,約0.4μm,呈黑色疏松狀,內(nèi)層平均厚約1.0μm,呈灰色連續(xù)狀;氧化膜的內(nèi)外層結(jié)合處起伏較大,結(jié)合不緊密,但內(nèi)層連續(xù)致密分布,與基體結(jié)合緊密,有利于合金抗氧化。

圖2b是圖2a氧化膜截面的線掃描結(jié)果,可知氧化膜的成分特征是富Cr而貧Ni、Mo,從成分上雖不能嚴格地將氧化膜區(qū)分為內(nèi)外層,但Cr主要在氧化膜的內(nèi)層富集,而外層則相對富Ni。氧化膜中Ni、Cr、O這3種元素的含量較高,說明氧化膜主要由Ni、Cr的氧化物組成。由于Mo的擴散系數(shù)很低,它在氧化膜中貧化。Fe的擴散系數(shù)很高,大于Ni、Cr,在氧化膜中有一定程度的富集,有研究認為,F(xiàn)e主要以置換原子的形式存在于位于氧化膜內(nèi)外層結(jié)合處的尖晶石(NiCr2O4)晶格之中[9]。

C-276合金在650℃腐蝕1 000h時,氧化膜很薄,約1.4μm(圖2a),但氧化物/基體界面比較平緩,并未觀測到明顯的裂紋和孔洞,這說明氧化膜與基體之間結(jié)合較為緊密。

圖2 氧化膜截面形貌(a)及其元素分布(b)Fig.2 Cross-section image(a)and EDS line scan profile(b)of oxide film

2.3 GIXRD分析

對腐蝕1 000h 試樣的氧化膜進行GIXRD(掠射角ψ=3°)分析。由三強線可對出氧化膜中的主要相(圖3),分別是 NiO、NiCr2O4及Cr2O3。值得注意的是,合金中元素Mo、Cr的含量相當(表1),但衍射峰卻無Mo的氧化物,原因是:1)Ni、Cr的擴散速率大,Mo的擴散速率小;2)Mo主要提供抗還原能力,對合金的抗氧化性并無顯著影響,且高溫下Mo的氧化物極易揮發(fā)[10]。C-276含有質(zhì)量分數(shù)為5%的Fe及4%的W(表1),但氧化膜的衍射峰并未顯示出Fe和W的氧化物的存在,這是由于它們生成的氧化物含量太低[5]。Fe和 W 均為Ni的固溶強化元素,且W還能顯著提高鎳基合金在還原性酸中的抗蝕性[11],因此在合金的氧化過程中,它們對合金的耐蝕性無影響。

圖3 腐蝕后的表面GIXRD分析Fig.3 GIXRD profiles of exposed C-276alloy

2.4 XPS分析

圖4示出腐蝕200h試樣的XPS圖譜,通過XPS分析試樣的氧化膜,可確定其中Ni、Cr、Mo的化學狀態(tài)以及3種元素的深度分布信息。圖4a顯示,Ni在氧化膜表層以NiO(854.0eV)、Ni(OH)2(856.3eV)和 NiCr2O4(862.2eV)3種形式存在[12-14]。4min濺射后,Ni(OH)2和NiO的強度均達到最大,且遠高于NiCr2O4,隨著濺射時間的延長,它們的強度逐漸降低,說明氧化膜的外層主要由Ni(OH)2和NiO組成;同時出現(xiàn)單質(zhì)Ni(853.2eV),Stephen的研究認為這是未被氧化的Ni或是Ni溶解成為Ni2+之 后 再 結(jié) 晶 形 成 的[15]。 圖 4b中 出 現(xiàn) 了Cr3+,但電子結(jié)合能分別為577.3和586.7eV的兩個峰,前者對應(yīng)的氧化物是Cr2O3,后者對應(yīng)的是 NiCr22-13,16],隨著濺射時間的延長,其強度逐漸升高,表明它們主要出現(xiàn)在氧化膜的內(nèi)層。Mo 3d的電子結(jié)合能為229.2和233.4eV,分別對應(yīng) MoO2和 Mo,17](圖4c)。經(jīng)較長時間(30min)濺射后才出現(xiàn)這些氧化物,且同時有Mo單質(zhì),而38min濺射后Mo單質(zhì)強度基本不變,說明其氧化物出現(xiàn)在沿氧化膜厚度方向靠近基體的地方。

圖4 腐蝕200h試樣不同濺射時間的XPS圖譜Fig.4 XPS spectra of 200hexposed sample after different spurting time

2.5 耐蝕性能分析

圖5為C-276合金的腐蝕增重和腐蝕增重速率曲線。實驗結(jié)果表明,在650℃/25MPa超臨界水中腐蝕1 000h后,合金的腐蝕增重和腐蝕增重速率分別為7.356 74mg/dm2和0.007 35mg/(dm2·h)。

由圖5可知,C-276合金的腐蝕增重先是快速增加,然后再逐漸減少;而腐蝕增重速率則先大幅降低,然后再穩(wěn)定下降,這可用反應(yīng)/擴散機理來解釋。在腐蝕初期,氧化膜的生長受金屬的反應(yīng)控制,導(dǎo)致短時間內(nèi)腐蝕增重較大;隨腐蝕時間的延長,氧化膜達到一定厚度,其保護性增強,腐蝕速率由界面反應(yīng)控制轉(zhuǎn)變?yōu)樵亟?jīng)氧化膜擴散控制,由于氧化膜內(nèi)層的致密性,使得氧化膜中的擴散阻力非常大,從而使腐蝕增重速率相應(yīng)減少。合金在腐蝕600h后腐蝕增重減小,一方面是由于基體中元素向外擴散受到阻礙,另一方面可能是外層NiO的溶解造成的。

圖5 腐蝕增重和腐蝕速率曲線Fig.5 Weight gain and general corrosion rate curves

3 討論

C-276合金在超臨界水中的氧化膜為雙層結(jié)構(gòu),這種鎳基合金在高溫高壓水環(huán)境中形成的雙層結(jié)構(gòu)膜已有許多描述[14,17-18]。在成分上,氧化膜富Cr而貧Ni、Mo。在形貌及組成上,外層是疏松的大顆粒,散亂地沉積在表面,主要由Ni(OH)2和NiO組成,對合金缺乏保護性;內(nèi)層致密的小顆粒,則連續(xù)分布,主要為Cr2O3,有利于合金抗氧化。在外層與內(nèi)層的結(jié)合處,部分Ni、Cr的氧化物又相互反應(yīng)生成了低缺陷的 NiCr2O4尖晶石[9],這增強了氧化膜內(nèi)層的致密性,使Cr2O3對基體的保護性更強,可見,氧化膜的內(nèi)層對合金的抗氧化起著關(guān)鍵作用,從而使合金表現(xiàn)出優(yōu)異的抗高溫氧化性能。

根據(jù)氧化膜外層的形貌、成分特征,可推測C-276合金的氧化膜外層為金屬溶解和氧化物沉淀形成,這符合Winkle提出的氧化物生長模型[19]。合金在氣孔底部的活性位置發(fā)生溶解(Ni2+),隨著溶解的金屬元素濃度的增加,所形成的氧化物便沉淀在這些位置上,且有著較高負自由能的混合氧化物(Ni(OH)2/NiO)首先在表面析出,形成了氧化膜的外層。對于氧化膜內(nèi)層的生長,根據(jù)XPS分析,符合固態(tài)生長機制,這與Robertson提出的模型[19]相一致。該模型認為:C-276合金氧化膜內(nèi)層(Cr2O3)的生長是由于水穿過氧化物微孔的作用結(jié)果,根據(jù)尖晶石點陣中金屬離子的擴散速率,Cr較Ni遷移慢因而在內(nèi)層富集,同時,C-276合金含有16%的 Mo,有研究[20]表明,Cr、Mo的復(fù)合效應(yīng)也有利于Cr在氧化膜中的富集。由于內(nèi)層的Cr減少了周圍金屬離子的擴散速率以及流動性,提高了尖晶石結(jié)構(gòu)(NiCr2O4)的穩(wěn)定性[4],從而導(dǎo)致了C-276合金形成的氧化膜內(nèi)層較為致密,外層較為疏松。外層為大顆粒,內(nèi)層是小顆粒,這是由于外層的生長不受空間限制,而內(nèi)層的生長受限于有限的空間[12]。

實驗結(jié)束后,對冷卻液的分析表明,冷卻液中富Ni[21],說明腐蝕過程主要是Ni的溶解。這驗證了Winkle模型解釋C-276合金氧化膜外層生長的正確性,也說明氧化膜中貧Ni是由于合金中Ni溶解變成Ni2+釋放到了水中。

以上兩種模型的結(jié)合很好地解釋了C-276合金在超臨界水中的氧化膜的形貌和成分特征,但要注意的是,關(guān)于氧化膜的結(jié)構(gòu),也有作者[22]提出了3層結(jié)構(gòu)的理論,該理論非常符合觀察到的腐蝕動力學,但多數(shù)情況下得不到腐蝕產(chǎn)物細節(jié)的支持,因此,有必要對氧化膜做進一步的研究。

4 結(jié)論

1)C-276合金在650℃/25MPa的超臨界水中的腐蝕過程主要是Ni的溶解,在該環(huán)境下合金的均勻腐蝕增重速率雖僅為0.007 35mg/(dm2·h),但由于不能形成均勻、完整的氧化膜,合金在超臨界水中并不具備優(yōu)越的耐腐蝕性能。

2)C-276合金在超臨界水中生成的氧化膜為雙層結(jié)構(gòu),氧化膜富Cr而貧Ni、Mo,氧化膜外層主要是疏松的大顆粒Ni(OH)2和NiO,內(nèi)層則主要是細小致密的Cr2O3顆粒,內(nèi)層對合金的抗氧化起著關(guān)鍵作用。

3)氧化膜外層(Ni(OH)2/NiO)為金屬溶解和氧化物沉淀形成,內(nèi)層(Cr2O3)的生長則符合固態(tài)生長機制,是水穿過氧化物微孔作用的結(jié)果。

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