易光斌,何田,楊湘杰,,彭文屹,蔡芬敏,盧皞,袁智斌
(1.南昌大學機電學院,江西 南昌 330031;2.南昌大學材料科學與工程學院,江西 南昌 330031;3.中國船舶系統工程部,北京 100036;4.江西省江銅–耶茲銅箔有限公司,江西 南昌 330029)
電解銅箔添加劑配方優化
易光斌1,何田2,楊湘杰1,*,彭文屹2,蔡芬敏2,盧皞3,袁智斌4
(1.南昌大學機電學院,江西 南昌 330031;2.南昌大學材料科學與工程學院,江西 南昌 330031;3.中國船舶系統工程部,北京 100036;4.江西省江銅–耶茲銅箔有限公司,江西 南昌 330029)
在高電流密度下用直流電沉積法制備了電解銅箔。電解液基礎成分為:Cu2+80 ~ 90 g/L,H2SO4120 ~ 130 g/L和Cl-30 ~ 40 mg/L。用正交試驗法研究了聚乙二醇、2–巰基苯并咪唑、硫脲、明膠等4種添加劑對電解銅箔力學性能的影響。最佳配比為:聚乙二醇 0 ~ 5.5 mg/L,2–巰基苯并咪唑0 ~ 6.0 mg/L,硫脲0 ~ 3.0 mg/L,明膠0 ~ 4.5 mg/L。由此制備的銅箔,其常溫抗拉強度與延伸率分別是411.3 MPa和9.3%,高溫抗拉強度與延伸率分別是209.2 MPa和2.9%。
電解銅箔;添加劑;正交試驗;力學性能
電解銅箔作為電子工業的基礎材料,在電子行業的發展中起著非常重要的作用。電解銅箔是用電沉積技術得到的沉積層,由于其具有純度高,沉積速率快,費用低,工作溫度低和操作簡單等優點,因此被廣泛用于CCL(覆銅板)和PCB(印制板)行業中。
添加劑在電解銅箔制備中起重要作用。添加劑的種類繁多,各種添加劑在電沉積過程中發揮著不同的作用。如氯離子可以加大陰極極化和抑制金屬異常生長,以提高銅箔的彈性強度、硬度和平滑感;明膠可細化晶粒,改善銅箔毛面峰谷形狀和增大銅箔致密度;聚乙二醇(PEG)可增大陰極極化,對陰極表面有較好的潤濕作用,能使在電沉積過程中產生的氣泡快速逸出,消除氫氣泡吸附在沉積層表面所產生的針孔。此外,較常見的添加劑還有 2–巰基苯并咪唑(M)、硫脲(TU)等[1-10]。研究添加劑對電解銅箔性能的影響,對電解銅箔的制備及生產控制具有十分重要的意義。
電解銅箔制備中,不同添加劑的影響各不相同,且相互制約。本文采用正交試驗法,研究了聚乙二醇、2–巰基苯并咪唑、硫脲、明膠等 4種不同的添加劑對18 μm電解銅箔力學性能的影響,確定了最佳添加劑配方,為工業生產提供一些參考。
2. 1 試驗方案設計
采用4因素3水平進行正交試驗,如表1所示。
2. 2 樣品制備
電解銅箔的制備采用直流電沉積技術。將表 1所述的添加劑配方加入到電解液中,電解液主要成分為:Cu2+80 ~ 90 g/L、H2SO4120 ~ 130 g/L和Cl-30 ~ 40 mg/L。試驗用容量為30 L的自制設備電解槽,陰極為鈦板(打磨至Ra<0.3),陽極為鉛板。向電解槽內注入電解液后循環攪拌,控制溫度為60 °C,調節電源將電流密度控制在65 A/dm2。反應74 s,制備出18 μm的銅箔。切斷電源后取出鈦陰極,去離子水沖洗后將銅箔剝離。

表1 正交試驗因素水平Table 1 Factors and levels of orthogonal test
2. 3 樣品性能測試
力學性能的測試參照美國電子電路和電子互連行業協會的測試方法(IPC TM 650),在樣品上切取0.5英寸 × 6英寸的箔條,注意切樣時要避開有缺陷部分,且保證其外形為矩形(內部角全部為90°),以確保根據該數據計算的橫截面積盡可能地準確。用RGT-0.5A型微機控制電子萬能試驗機和AG-I/50N-10KV型高溫拉伸機(由深圳市瑞格爾儀器有限公司提供),分別在常溫和180 °C下測試銅箔的力學性能。
正交試驗表與試驗結果列于表2。為了便于直觀分析,根據表2畫出正交試驗因子水平與均值(k)關系曲線,如圖1 ~ 4所示。各添加劑含量對實驗指標值的影響分析如下。
(1) 當聚乙二醇(PEG)質量濃度為5.5 ~ 6.0 mg/L時,銅箔常溫抗拉強度σN明顯提高;當其質量濃度為6.0 ~ 6.5 mg/L時,σN變化不明顯。銅箔的高溫抗拉強度σH、常溫延伸率δN和高溫延伸率δH均隨PEG質量濃度的增大而顯著減小。
(2) 隨著 2–巰基苯并咪唑(M)質量濃度的增加,銅箔所有的力學性能σN、σH、δN和δH均先減小后增大,且在其質量濃度為7 mg/L時有極小值點。
(3) 隨著硫脲(TU)質量濃度的增大,銅箔常溫力學性能單調減小,而高溫力學性能都單調增大。
(4) 隨著明膠質量濃度的增大,銅箔常溫抗拉強度σN先減小后增大,高溫抗拉強度σH和常溫延伸率δN都是先增大后減小,高溫延伸率δH單調增大。
由表2及圖1 ~ 4可知,硫脲對銅箔力學性能的影響最大。TU能生成了較多的[Cu(TU)]2+配合物,Cu2+與[Cu(TU)]2+同時被還原,電沉積機理由瞬時成核變為持續成核。當其質量濃度達到一定量時,陰極表面的成核密度數達到最大值,晶粒細化效果最明顯,從而有利于提高銅箔性能[8]。隨著其質量濃度的增大,銅箔常溫力學性能顯著下降,特別是會使銅箔產生翹曲等缺陷。考慮到成本等因素,TU控制在3 mg/L為宜。聚乙二醇(PEG)質量濃度的增大也會導致銅箔性能的下降,因此其質量濃度也不能太高,以5.5 mg/L為宜。明膠質量濃度為4.5 mg/L時,銅箔高溫抗拉強度和常溫延伸率均達到最大值。2–巰基苯并咪唑的質量濃度為6 mg/L時,銅箔力學性能基本上都是最高的。因此,正交試驗的最優結果為C1A1D2B1,即添加劑的最優配方為:硫脲3 mg/L,聚乙二醇5.5 mg/L,明膠4.5 mg/L,2–巰基苯并咪唑6 mg/L。采用該添加劑配方所獲得的銅箔力學性能為:σN= 411.3 MPa,σH= 209.2 MPa,δN= 9.3%,δH= 2.9%。最優配方下所得銅箔的常溫力學性能都有提高,特別是常溫延伸率顯著增加,高溫性能都在可控范圍內,符合客戶要求。

表2 正交試驗結果Table 2 Results of orthogonal test

圖1 聚乙二醇含量與各因素均值的關系Figure 1 Relationship between polyethylene glycol content and mean value of individual factor

圖2 2–巰基苯并咪唑含量與各因素均值的關系Figure 2 Relationship between 2-mercaptobenzimidazole content and mean value of individual factor

圖3 硫脲含量與各因素均值的關系Figure 3 Relationship between thiourea content and mean value of individual factor

圖4 明膠含量與各因素均值的關系Figure 4 Relationship between gelatin content and mean value of individual factor
對電解銅箔制備中添加劑的4個影響因素和3個水平建立正交試驗表,利用直觀圖示和數據分析 2種分析方法確定其對電解銅箔常溫抗拉強度、高溫抗拉強度、常溫延伸率和高溫延伸率的影響主次順序和最優水平,最終得出 4種添加劑的影響主次順序為:硫脲 > 聚乙二醇 > 明膠 > 2–巰基苯并咪唑。經優化的最佳條件為:硫脲3 mg/L,聚乙二醇5.5 mg/L,明膠4.5 mg/L,2–巰基苯并咪唑6 mg/L。
[1] MIURA S, HONMA H. Advanced copper electroplating for application of electronics [J]. Surface and Coatings Technology, 2003, 169/170: 91-95.
[2] KANG M C, GEWIRTH A A. Influence of additives on copper electrodeposition on physical vapor deposited (PVD) copper substrates [J]. Journal of the Electrochemical Society, 2003, 150 (6): C426-C434.
[3] LEE Y-K, O’KEEFE T J. Evaluating and monitoring nucleation and growth in copper foil [J]. Journal of the Minerals, Metals and Materials Society, 2002, 54 (4): 37-41.
[4] KONDO K, MURAKAMI H. Crystal growth of electrolytic Cu foil [J]. Journal of the Electrochemical Society, 2004, 151 (7): C514-C518.
[5] 許家園, 楊防祖, 謝兆雄, 等. 酸性鍍銅液中Cl-離子的作用機理研究[J].廈門大學學報(自然科學版), 1994, 33 (5): 647-651.
[6] 劉烈煒, 吳曲勇, 盧波蘭, 等. 氯離子對酸性鍍銅電沉積的影響[J]. 電鍍與環保, 2004, 24 (5): 7-9.
[7] 張源, 李國才. 明膠作為銅電解添加劑的研究與實踐[J]. 稀有金屬, 2000, 24 (1): 66-69.
[8] 董云會, 許珂敬, 劉曙光, 等. 硫脲在銅陰極電沉積中的作用[J]. 中國有色金屬學報, 1999, 9 (2): 370-376.
[9] 李強. 添加劑PEG、Cl-、SPS作用下的銅電結晶過程研究[D]. 重慶: 重慶大學, 2007.
[10] 李權. 聚二硫二丙烷磺酸鈉對銅電沉積過程的表面作用機理研究[J].四川師范大學學報(自然科學版), 1999, 22 (1): 71-73.
Optimization of additive formulation for electrolytic copper foil //
YI Guang-bin, HE Tian, YANG Xiang-jie*, PENG Wen-yi, CAI Fen-min, LU Hao, YUAN Zhi-bin
Electrolytic copper foils were prepared by direct current electrodeposition at high current density. The electrolyte is mainly composed of Cu2+80-90 g/L, H2SO4120-130 g/L and Cl-30-40 mg/L. The effects of four kinds of additives such as polyethylene glycol (PEG), 2-mercaptobenzimidazole (M), thiourea (TU) and gelatin on the mechanical properties of electrolytic copper foil were studied. The optimal formulation is as follows: PEG 0-5.5 mg/L, M 0-6 mg/L, TU 0-3 mg/L, and gelatin 0-4.5 mg/L. The tensile strength and elongation of copper foil at room temperature is 411.3 MPa and 9.3%, respectively, while at high temperature they are 209.2 MPa and 2.9%, respectively.
electrolytic copper foil; additive; orthogonal test; mechanical property
School of Mechanical and Electronic Engineering, Nanchang University, Nanchang 330031, China
TQ153.14; TG146.11
A
1004 – 227X (2010) 11 – 0026 – 03
2010–07–11
2010–07–23
科技部科技人員服務企業行動項目(2009GJC50041);江銅–耶茲銅箔有限公司與南昌大學合作研究項目。
易光斌(1977–),男,江西泰和人,在讀博士研究生,講師,研究方向為電解銅箔組織性能。
楊湘杰,教授,(E-mail) yangxj@ncu.edu.cn。
[ 編輯:吳定彥 ]