e型電子槍中非均勻磁場偏轉系統的聚焦特性研究
2009-02-08 01:11:24韓亮寧濤李想趙玉清
西安交通大學學報 2009年12期
韓 亮 寧 濤 李 想 趙玉清
摘要：利用永磁鐵結構的偏轉聚焦系統產生的非均勻磁場，改進了目前e型電子槍電子束偏轉聚焦特性，同時縮小了槍體體積，減小了功耗，采用邊界元法與等效磁荷法，模擬了偏轉聚焦系統的非均勻磁場，再利用龍格一庫塔法模擬出電子在該系統中的運動軌跡，為獲得良好的聚焦特性，電子發射速度和發射位置應進行優化選擇，同時電子束保持水平出射，研究結果表明：電子槍陽極板端點與陰極燈絲中心點保持水平可滿足電子水平出射；非均勻分布的磁場對e型電子槍中電子束具有良好的聚焦作用；所設計的偏轉聚焦系統在電子束流為50～100mA時，束斑小于3mm，
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