高溫燒結和等離子轟擊改善碳納米管薄膜的場發射性能
2008-04-12 00:00:00商世廣朱長純李昕
西安交通大學學報 2008年4期
摘要：針對絲網印刷碳納米管(CNTs)薄膜陰極場發射能力差和壽命短等問題，提出了一種能有效改善其場發射性能的高溫燒結和等離子轟擊后處理方法。同其他方法相比，該方法避免了直接接觸對CNTs膜體造成的機械損傷，能徹底清除CNTs薄膜表面的有機粘合劑，增強CNTs薄膜與襯底的接觸，并且燒毀超長的CNTs尖端。場發射特性測試表明，經該方法處理的CNTs薄膜的開啟場強為2.6V/μm，電流密度在場強為9.0V/μm時達到527×10-6A/cm2。場發射壽命測試顯示，該方法處理的CNTs薄膜陰極經點亮200min后電流密度基本沒有衰減，波動也較小。該方法為改善絲網印刷CNTs薄膜陰極的場發射性能提供了一種可行的方案。
關鍵詞：碳納米管薄膜；場發射；絲網印刷
中圖分類號：TN27;0484 文獻標志碼：A 文章編號：0253—987X(2008)04—0466—05
