摘要:本文針對(duì)硅在自然界中存在狀態(tài)、硅與強(qiáng)堿溶液反應(yīng)以及粗硅制取反應(yīng)等幾個(gè)常見(jiàn)的在教學(xué)過(guò)程中有爭(zhēng)議的一些問(wèn)題進(jìn)行了闡述與分析。
關(guān)鍵詞:硅;氧化劑;粗硅制取;Ellindham圖
文章編號(hào):1005-6629(2008)03-0072-03中圖分類號(hào):G633.8 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:B
硅是無(wú)機(jī)非金屬的主角,是地殼的基本骨干元素,是一種重要的半導(dǎo)體材料。在中學(xué)階段,以碳和元素周期律知識(shí)為基礎(chǔ),向?qū)W生簡(jiǎn)要介紹硅及其典型化合物二氧化硅的相關(guān)知識(shí),擴(kuò)大學(xué)生的知識(shí)面,培養(yǎng)學(xué)生科學(xué)素養(yǎng),是非常必要的。
但在這一部分教學(xué)時(shí),教師和學(xué)生始終存在一些疑問(wèn),下面就對(duì)這些疑問(wèn)進(jìn)行探討,談?wù)劰P者的觀點(diǎn)。
1對(duì)硅在自然界中存在狀態(tài)的探討
疑問(wèn):教材[1]146頁(yè)第一自然段第二行:“在常溫下,硅的化學(xué)性質(zhì)不活潑,……”;145頁(yè)第二節(jié)第一自然段第二行:“在自然界中,沒(méi)有游離的硅,只有以化合態(tài)存在的硅,……”;既然在常溫下,硅的化學(xué)性質(zhì)不活潑,為什么自然界中沒(méi)有游離態(tài)的硅單質(zhì)?
探討:
基態(tài)時(shí),硅的原子電子組態(tài)為:Si:[Ne] 3s23p2, 硅原子價(jià)層3s、3p軌道有電子占據(jù),能級(jí)相近的3d空軌道可以參加成鍵作用, 因d軌道參加成鍵, 除形成sp3d和sp3d2等雜化軌道外, 還使Si-O等類型化學(xué)鍵因pπ-dπ作用而大大增強(qiáng)[2]。
表1硅化學(xué)鍵的鍵長(zhǎng)和鍵能[2]
由表1可以看出鍵能(E)的關(guān)系:E(Si-O)>> E(Si-Si)
自然界中硅的主要存在形式硅酸鹽,主要是以[SiO4]4-基團(tuán)組成, 在[SiO4]4-基團(tuán)中,Si除以sp3雜化軌道和4個(gè)氧原子按四面體方向形成4個(gè)σ鍵外,Si原子的dx2-y2和O原子的p軌道相互疊加,由O原子提供電子成鍵,如圖1(a)所示, 同時(shí)Si原子的dz2軌道也可和O原子的pπ軌道互相疊加,由O原子提供電子成鍵,如圖1(b)所示。 由于這種pπ→dπ的作用,使Si-O鍵增強(qiáng),鍵長(zhǎng)縮短,鍵能增加。在硅酸鹽中, Si-O鍵的平均鍵長(zhǎng)為162pm,比Si和O的原子半徑和(113pm+74pm=187pm)短25pm[2]。
圖1 [SiO4]4-中的pπ→dπ配鍵(每種只示出一個(gè))
(a)pπ→dx2-y2, (b) pπ→dz2, 注:引自文獻(xiàn)[2]
在地殼形成時(shí)溫度很高,且硅與氧具有高親和力[3],能夠生成更為穩(wěn)定的Si-O四面體結(jié)構(gòu),因此,豐度僅次于氧的硅單質(zhì)在自然界中就并不存在了。即自然界中不存在由Si-Si鍵連接的純硅單質(zhì), 而基本上是以更為穩(wěn)定的Si-O鍵結(jié)合的硅酸鹽的形式存在[2]。
2 對(duì)硅與強(qiáng)堿反應(yīng)的探討
疑問(wèn):教材[1]146頁(yè)第一自然段第二行:“在常溫下,硅的化學(xué)性質(zhì)不活潑,除氟氣、氫氟酸和強(qiáng)堿外,硅不跟其他物質(zhì),如……等反應(yīng)”;硅與強(qiáng)堿溶液反應(yīng),氧化劑是何物?
探討:
硅與強(qiáng)堿溶液反應(yīng)氧化劑的常見(jiàn)觀點(diǎn)見(jiàn)表2。
表2 硅與強(qiáng)堿溶液反應(yīng)的一些不同觀點(diǎn)
文獻(xiàn)[6] [7][11]介紹了一些實(shí)驗(yàn)事實(shí),下面是對(duì)實(shí)驗(yàn)事實(shí)的分析:
表3 硅與強(qiáng)堿溶液反應(yīng)的實(shí)驗(yàn)事實(shí)分析
從實(shí)驗(yàn)事實(shí)可以看出,常溫下,純水與硅不反應(yīng),只有在600℃時(shí),硅與水才反應(yīng),觀點(diǎn)三將硅與水在常溫下的反應(yīng)分成條件不同的兩個(gè)反應(yīng)顯然是不對(duì)的。只有無(wú)水加熱狀態(tài)下, 硅可與強(qiáng)堿反應(yīng),OH-作氧化劑。
該反應(yīng)可分成兩個(gè)半反應(yīng), 見(jiàn)表4:
表4 在堿性溶液條件下H(Ⅰ)-(0)和Si(IV) -(0)
電對(duì)的半反應(yīng)及標(biāo)準(zhǔn)電極電勢(shì)[8]
從電對(duì)標(biāo)準(zhǔn)電極電勢(shì)可以看出理論上在堿性條件下H2O可作氧化劑氧化Si;從實(shí)驗(yàn)事實(shí)四分析,產(chǎn)生H2的量不決定于NaOH的量,從實(shí)驗(yàn)上也說(shuō)明堿性條件下H2O可作氧化劑氧化Si,所以筆者支持觀點(diǎn)四,此反應(yīng)氧化劑是H2O,NaOH僅作催化劑。
在298K時(shí)硅與水反應(yīng)在熱力學(xué)上是可能的,但由于反應(yīng)活化能較高故要使該反應(yīng)發(fā)生,有如下方法:一是給體系加熱,提供能量, 越過(guò)活化能(事實(shí)一); 二是加入催化劑(OH-),改變反應(yīng)途徑,降低活化能[9]。
3 對(duì)粗硅制取反應(yīng)的探討
疑問(wèn): 教材[1] 146頁(yè)第三自然段第二行:“在工業(yè)上,用炭在高溫下還原二氧化硅的方法可制得含有較少雜質(zhì)的粗硅。SiO2+2C Si+2CO↑”,為什么反應(yīng)生成的是CO,而不是常見(jiàn)的CO2?
探討:
1.假設(shè)反應(yīng)為SiO2+C=Si+CO2↑,則:
△rG =[△fG(CO2)+△fG(Si)]-[△fG(SiO2)+△fG
(C)]
=(-394.4+0)-(-805.0+0)=410.6kJ>0kJ, 常溫下,反應(yīng)不能自發(fā)發(fā)生。
經(jīng)計(jì)算:△rH =465.89 kJ;△rS =184.79 J·K-1
根據(jù)△rG=△H-T△S<0kJ反應(yīng)才能自發(fā)進(jìn)行,推出只有T>2521.18K時(shí),該反應(yīng)才可能發(fā)生。
2.假設(shè)反應(yīng)為SiO2+2C=Si+2CO↑,則:
△rG =[△fG(CO) ×2+△fG (Si)]-(△fG (SiO2)+△fG (C))
=[(-137.3)×2+0]-(-805.0+0×2)=530.4kJ>0 kJ, 常溫下,反應(yīng)也不能自發(fā)發(fā)生。
同理計(jì)算,根據(jù)△rG =△H-T△S<0kJ反應(yīng)才能自發(fā)進(jìn)行,推出只有T>1766.88 K時(shí),該反應(yīng)才可能發(fā)生。即當(dāng)溫度超過(guò)1766.88K時(shí),反應(yīng)按生成Si和CO方式進(jìn)行。
經(jīng)以上近似計(jì)算,在高溫條件下這兩個(gè)反應(yīng)都能進(jìn)行。但生成Si和CO的反應(yīng)比生成Si和CO2的反應(yīng)易進(jìn)行,因生成Si和CO的溫度較生成Si和CO2低754.3K。在Ellindham圖(圖2)中 “2C +O2→2CO”線先于“C+O2→CO2”線低于“Si+O2→SiO2”線,也可得出該結(jié)論。
圖2 Ellindham的氧化物生成吉布斯自由能與溫度的關(guān)系圖
注: 1)引自文獻(xiàn)[10], 引用圖形時(shí)將無(wú)關(guān)部分除去;
2)圖中m表示熔點(diǎn);×表示相變
所以將SiO2跟C的反應(yīng)寫成SiO2+2C=Si+2CO更能合乎實(shí)際反應(yīng)事實(shí)。
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注:“本文中所涉及到的圖表、注解、公式等內(nèi)容請(qǐng)以PDF格式閱讀原文。”