Ｎ離子注入非晶碳膜的ＣＮ成鍵研究
2005-04-29 00:00:00林景波李俊杰李哲奎顧廣瑞蓋同祥金哲胡超權呂憲義金曾孫
吉林大學學報(理學版) 2005年3期
在新型薄膜材料的合成技術中，離子注入方法作為一種非平衡工藝，能控制添加不同的離子而獲得所需的表面特性，同時可以誘導一些新的亞穩定相的形成；離子注入能夠對基體材料進行表面改性而不改變體材料特性，從而解決了涂層附著力的問題；此外，通過變化注入參數(如注入離子能量、劑量、襯底溫度等)或通過注入后的退火工藝形成近理想配比的薄表面膜，Markwitz等人成功地利用此種方法合成了近理想配比的β-Si3N4.
