ZnSe／SiO₂復合材料光學吸收特性的研究

郝海燕　姚　熹　萬　幸　汪敏強　吳小清

摘要：采用溶膠—凝膠原位析晶法和高溫還原熱處理工藝制備了ZnSe／SiO₂納米復合材料。通過吸收光譜和Z—Scan技術對材料的光學吸收特性進行了表征．在吸收光譜中，不同ZnSe摩爾分數的樣品的吸收邊相對于ZnSe體材料發生了不同程度的藍移，藍移量與復合材料中ZnSe納米晶粒的尺寸有關，根據量子尺寸效應估算了復合材料中ZnSe納米晶粒的平均尺寸大約為3～4 nm．利用Z—Scan技術測定了ZnSe摩爾分數為0．01和0．03的ZnSe／SiO₂納米復合材料的雙光子吸收系數．ZnSe／SiO₂納米復合材料在不同強度的入射光的激發下其出射光強度與入射光強度之間的關系呈現光學限幅特征，ZnSe摩爾分數為0．01的樣品的限幅閾值為5 962 GW／m²，嵌位輸出值約為4 800 GW／m²，限幅的破壞閾值為12 400 GW／m²。

關鍵詞：ZnSe／SiO₂納米復合材料；光學吸收；光學限幅

中圖分類號：O437文獻標識碼：A文章編號：0253—987X(2005)12—1391—05-