半導體導體前端工藝技術發展現狀與展望（上）

65nm工藝很快將迎來實用化階段，并將開始解決45nm提出的挑戰，積極進行著其支撐工藝與生產設備的技術開發。 本文為Selete(SemiconduCtOrLeading-edgeTechnologieslnc．)專家對半導體前端工藝技術的現狀與未來的看法。