龍圖光罩：領跑半導體掩模版國產替代珠海工廠高端產能成新引擎

半導體掩模版是集成電路制造中的關鍵材料，被譽為芯片制造的“母版”。它不僅是光刻工藝的圖形載體碼，更直接影響芯片的性能、良率和制程水平，戰略價值日益凸顯。

作為國內極少數具備獨立研發能力的第三方半導體掩模版供應商，龍圖光罩正以創新為驅動，加速推進這一關鍵材料的國產化進程。在全球科技競爭格局重塑的大背景下，公司持續加大研發投入，突破技術瓶頸，逐步打破國際巨頭在該領域的技術壟斷。2024年，公司業績保持高速增長，報告期內實現營業收入24，650.35萬元，較上年同期增長12.92%，創近五年新高；實現歸屬于上市公司股東的凈利潤9，183.29萬元，同比增長9.84%。

領跑半導體掩模版國產替代 加速高端制程突破 珠海新廠產能釋放 進一步增強盈利能力

龍圖光罩專注于半導體掩模版的研發與生產，產品涵蓋石英掩模版和蘇打掩模版兩類，覆蓋130nm及以上制程節點，廣泛應用于功率半導體、MEMS傳感器、IC封裝、模擬IC等特色工藝半導體領域。其終端場景包括新能源、光伏發電、汽車電子、工業控制、無線通信、消費電子等。隨著全球半導體產業向5G、AI、物聯網、新能源等領域擴展，掩模版需求持續增長。

行業數據顯示，2024年全球半導體市場規模已突破6000億美元，同比增長近20%。在這一輪產業擴張中，中國半導體產業鏈的自主可控需求尤為迫切。值得注意的是，半導體掩模版領域的國產化率僅為10%，高端領域不足3%，90%依賴進口，這為龍圖光罩等本土企業提供了廣闊的發展空間。

在量產能力方面，公司不僅實現了130nm節點的穩定量產，更高制程的第三代掩模版PSM產品也已進入客戶驗證階段。報告期內，珠海工廠的主要生產設備陸續到貨并順利完成安裝調試。隨著項目逐步推進，公司產品量產制程水平將進一步提升至90nm、65nm，實現技術迭代，下游應用也將隨之擴展至驅動芯片、MCU、信號鏈、CIS、Flash、eNVM等領域。目前，公司技術實力在國內第三方半導體掩模版廠商中處于第一梯隊，滿足下游大型晶圓廠的配套需求，進一步提升市場競爭力和市場份額。

在市場布局上，公司已建立起優質的客戶生態，與華虹宏力、比亞迪半導體等頭部企業保持長期穩定的合作關系，產品廣泛應用于功率半導體、MEMS傳感器等領域。值得一提的是，隨著產品結構優化，高附加值的石英掩模版收入占比已提升至81.31%，顯著增強了公司的盈利能力。

研發投入加碼 突破納米級工藝難關OPC/PSM技術躋身行業前列

半導體掩模版生產工藝復雜，涉及光刻、檢測、修補等環節，需滿足納米級精度要求，對最小線寬、位置精度、CD精度及缺陷管控等均有極高標準，技術壁壘極高。掩模版供應商必須具備強大的制程工藝水平、精度控制能力以及完善的技術研發體系，才能滿足半導體制造的苛刻需求。龍圖光罩始終致力于通過持續研發投入與技術創新，追趕國際先進水平。公司已建立起完整的技術體系，涵蓋CAM、光刻、檢測三大環節，擁有14項核心工藝技術，包括圖形補償（OPC）技術、精準對位標記技術、光刻制程管控技術、曝光精細化控制技術、缺陷修補與異物去除技術等。其中，OPC補償和PSM相移掩模版技術已達到行業領先水平。

2024年，公司研發投入再創新高，達2305萬元，同比增長14.25%，為技術突破提供了堅實保障。報告期內，公司對第三代半導體掩模版技術進行了全流程研發和工藝調試，新獲授權專利18項（發明專利9項，實用新型專利9項）。截至報告期末，公司累計取得25項發明專利和36項軟件著作權，研發優勢顯著。這些成果將助力公司保持在半導體掩模版領域的技術領先地位。

根據戰略規劃，未來三至五年，公司將圍繞高端半導體芯片掩模版領域，持續加大研發和資金投入，逐步實現90nm、65nm及更高節點的高端制程掩模版量產與國產化配套，擴大營業收入規模和市場占有率。此外，公司計劃建立國內專業化的半導體掩模版工程中心，聯合高校及科研院所，針對高端制程掩模版制造技術展開研發，拓寬產業鏈上下游協作，實現部分工序的自制化。