微種植體植入不同部位治療安氏二類錯頜畸形療效及美學效果觀察*

田彥星，郝少英

(河北省邢臺市第五醫院口腔科，河北 邢臺 054000)

上頜前突常表現為開唇露齒，側貌前突，嚴重影響患者的美觀及口腔功能[1]。矯治上頜前突成功的關鍵在于上前牙最大限度地內收。傳統增強支抗的方法不僅制作工藝復雜，舒適度差，還依賴患者的配合。隨著技術的發展，微種植體作為一種新的增強支抗的方式，受到了醫生和患者的歡迎。其不僅體積小，不需要患者的配合，還可以提供強支抗。但是，微種植體植入的高度和角度不同，對前牙及磨牙移動的影響各個學者的說法卻不一致。本研究旨植入不同高度的微種植體在增強支抗的前提下，觀察上前牙及上磨牙的移動情況，評價軟組織側貌及標準微笑時的美學效果，以期更好地指導臨床應用。

1 資料與方法

1.1一般資料 收集邢臺市第五醫院口腔科2014年至2019年門診安氏二類Ⅰ分類錯頜患者50例。納入標準：恒牙合；上頜后牙區無擁擠，可植入微種植體，ANB角大于或等于5°，覆蓋大于或等于6 mm下頜平面角為均角，側貌顯示上頜前突，開唇露齒。排除標準：全身系統疾病；長期服藥史，外傷史，明顯牙槽骨吸收及顳頜關節病，牙列缺損。在征得患者及家長同意，簽署知情同意書，并經邢臺市第五醫院醫學倫理委員會批準后，隨機分為試驗組和對照組。試驗組中男10例，女15 例；年齡18～28 歲，平均(22.06±5.36)歲；對照組中男9 例，女16 例；年齡18～30歲，平均(21.25±4.95)歲。兩組一般資料比較，差異均無統計學意義(P>0.05)。所有患者于治療前、治療后拍攝X線頭顱側位片，正側位面相，口內片。

1.2方法

1.2.1矯治設計 兩組均拔除上頜第一前磨牙和下頜第二前磨牙。使用MBT矯治技術進行矯正。試驗組于上頜第一磨牙與第二前磨牙之間頰側植入微種植體，植入高度為主弓絲齦向 9 mm。對照組于上頜第一磨牙與第二前磨牙之間頰側植入微種植體，植入高度為主弓絲齦向5 mm。均使用高度為2 mm牽引鉤進行牽引。

1.2.2矯治方法 全口牙列粘結MBT托槽及頰面管(美國3M公司)上頜第一磨牙與第二前磨牙之間植入微種植體，(蘇州市康力骨科器械有限公司生產 PTⅢ 1.5 mm×8.0 mm)試驗組植入高度為主弓絲齦向9 mm，對照組植入高度為主弓絲齦向5 mm。在排齊整平階段，微種植體被動牽引上頜尖牙。排齊整平后，兩組上下頜更換為0.482 6 cm×0.063 5 cm不銹鋼方絲，微種植體用鎳鈦拉簧施力150 g于上頜側切牙遠中牽引鉤，關閉拔牙間隙，下頜牙列排齊整平，調整磨牙關系。關閉間隙后進行咬合關系的調整。

1.2.3臨床觀察指標 以FH平面為基準平面，測量指標為U1-FH上中切牙與眶耳平面的下后角U1-S(mm)上中切牙的切緣到眶耳平面的垂線與蝶鞍點到眶耳平面垂線之間的距離。U1-SN角，U1-PP角 U1-PP距上中切牙切緣到腭平面的垂直距離，U6-PP上頜第一磨牙近中頰尖點到腭平面的垂直距離U6-S上頜第一磨牙近中頰尖點到眶耳平面垂足與蝶鞍點到眶耳平面垂線之間的距離。U6-PTM翼上頜裂點與上頜第一恒磨牙近中頰尖到FH平面的垂直距離。放松狀態下側面照測量鼻唇角，上唇到審美平面的距離，(UL-Z線，位于審美平面內側為負值，外側為正值)下唇到審美平面的距離的測量值(LL-Z線，位于審美平面內側為負值，外側為正值)，社交微笑時牙齦暴露程度(微笑時上唇下緣與上中切牙齦緣之間的距離，位于牙齦緣齦方為正，位于齦緣切方為負)。

2 結 果

2.1兩組患者矯正前后前牙X線頭影測量結果比較 矯正前兩組前牙轉矩、前牙垂直向距離比較，差異無統計學意義(P>0.05)。矯正后兩組均有明顯的內收，兩組比較，差異無統計學意義(P>0.05)。試驗組較關閉間隙前壓低0.73 mm，轉矩丟失6.4°。對照組較關閉間隙前伸長0.67 mm，轉矩丟失13.63°，兩組比較，差異有統計學意義(P<0.05)。見表1。

表1 治療前后兩組患者矯正前后前牙X線頭影測量結果

2.2兩組患者矯正前磨牙X線頭影測量結果比較 矯正前兩組磨牙垂直距離和矢狀向位置比較，差異無統計學意義(P>0.05)。見表2。

表2 兩組患者矯正前磨牙X 線頭影測量結果

2.3兩組患者矯正后磨牙X線頭影測量結果比較 兩組均有不同程度前移，試驗組磨牙前移0.85 mm，對照組磨牙前移1.11 mm，對照組較試驗組前移0.26 mm，但差異無統計學意義(P>0.05)。試驗組上頜第一磨牙伸長0.71 mm，對照組上頜第一磨牙壓低0.91 mm，但兩組比較，差異無統計學意義(P>0.05)。見表3。

表3 兩組患者矯正后磨牙X線頭影測量結果

2.4兩組患者矯正前軟組織測量結果比較 矯正前兩組軟組織測量指標上均接近，兩組比較,差異無統計學意義(P>0.05)。見表4。

表4 兩組患者矯正前軟組織測量結果

2.5兩組患者矯正后軟組織測量結果比較 矯正后鼻唇角角度均有增加，UL-Z線，LL-Z線均減小，兩組比較,差異無統計學意義(P>0.05)。試驗組上唇覆蓋上切牙1.15 mm，對照組前牙區牙齦暴露量1.74 mm,兩組比較,差異有統計學意義(P<0.05)。見表5。

表5 兩組患者矯正后軟組織測量結果

3 討 論

安氏二類Ⅰ分類錯頜畸形是較為常見的一種錯頜畸形，我國發生率約為30%。其不僅影響患者的顏面部美觀，還對患者的功能也有影響。矯正安氏Ⅱ類Ⅰ分類錯頜畸形的關鍵是防止后牙前移，最大限度地內收前牙，從而改善患者的側貌，建立良好的功能。傳統增強支抗的方式不僅欠舒適、不美觀且依賴患者的配合。近年來，微種植體作為一種新的增強支抗方式[12-15]，受到越來越多的正畸醫師的歡迎。但是，微種植體植入的角度、高度及所涉及的正畸力系和生物力分析尚不明確。本研究旨在通過植入不同高度的微種植體內收前牙，觀察整個上頜牙弓的變化，評價患者的側貌及微笑美學效果，從而給醫師臨床操作提供指導意義。

從表1、2中可以看出，隨著微種植體植入高度的增加，前牙轉矩丟失量逐漸減少，冠舌向傾度減少，壓入趨勢增強。這與孫志濤等[1]、FELICITA等[6]研究結果一致。分析其原因是，隨著微種植體植入高度的增加，內收力的作用線越來越接近前牙的阻抗中心。牽引力除了產生水平向后的力量，還產生垂直向壓低的力，前牙正轉矩增加，牙齒發生可控的傾斜移動。關于前牙的阻抗中心各個學者的觀點各不相同。SUNG等[2]認為前牙阻抗中心位于正中矢狀面上，弓絲上方約9 mm弓絲中點后方 13.5 mm處。而周雪中等[3]認為根本不存在共同的阻抗中心前牙的整體移動很難達到，只能無限接近。臨床上前牙阻抗中心的位置受牙周膜面積、牙根的形態長度等影響，很難確定上頜前牙的阻抗中心的確切位置。

從表3中可以看出，試驗組磨牙前移0.85 mm，對照組磨牙前移1.11 mm，這與其他研究結果一致[8]，陳志偉等[8]認為磨牙的前移可能Ⅱ類牽引有關。本研究中，兩組均未采用Ⅱ類牽引，磨牙仍有前移，分析原因可能是咬合力使磨牙輕微前移。試驗組上頜第一磨牙伸長0.71 mm，對照組上頜第一磨牙有輕微壓低，但差異無統計學意義(P>0.05)，這與其他學者的結果不一致。尹傳衛等[4]指出，微種植體支抗位于托槽槽溝根尖方向8～10 mm，牽引鉤位于托槽槽溝上方5～6 mm，關閉間隙時上頜磨牙被壓低。這可能是本實驗采取的牽引鉤高度為2 mm，內收牽引力的作用線有所改變，造成磨牙的移動方向不同。再者，牽引鉤的位置位于側切牙及尖牙之間，隨著微種植體高度的增加，前牙的壓低趨勢增強，弓絲彈性作用下，磨牙會隨著弓絲的形變，而有所伸長。對照組磨牙降低0.91 mm，上頜合平面順時針旋轉，分析原因可能是前牙內收力的作用線位于上頜前牙和上頜磨牙阻抗中心合方。前牙舌傾，磨牙向后傾斜，造成磨牙壓低。

正畸治療的結果如果只關注咬合情況，而忽略了軟組織的變化也是不完美的。畢竟擁有良好面容是許多患者尋求正畸治療的目的所在。本研究從軟組織的變化中發現，安氏二類Ⅰ分類錯頜畸形，隨著上前牙的內收，鼻唇角角度在逐漸增大。逐漸接近正常值92.33°[7]并向美貌人群靠攏。矯治結束后，兩組患者均可在放松狀態下閉唇，改變開唇露齒的情況，接近于正常成人上唇在審美平面后方1～2 mm，下唇幾乎接觸審美平面的水平,說明雖然微種植體植入高度不同，均能有效內收前牙，改變側貌凸度，在矢狀向上滿足支抗的需求。一般認為顯露75%的牙冠到2 mm的牙齦這一范圍是美觀的,有學者研究適當地露齦微笑更具有吸引力，尤其對于年輕女性，而大多數人呈現為中位笑線[9-10]。對照組在社交微笑時，牙齦有適當暴露約為1.7 mm，試驗組上唇緣蓋過上切牙約1.1 mm均是美觀的，但差異有統計學意義(P<0.05)。這可能是因為矯正過程中，對照組上頜牙列順時針旋轉，造成切牙暴露量多。而試驗組微種植體有壓低前牙的趨勢，造成前牙暴露量減小。

盡管本研究旨在研究微種植體植入高度對牙齒移動的影響的相關性,但其結果差異性并不顯著。這可能與選取病例例數不多有關。兩組患者矯正結束時間短均未進行長期的追蹤觀察，應進一步增加病例，追蹤現有患者矯正結束后長期效果總結更多的實踐經驗，讓更多的患者受益，在臨床上推廣使用。

綜上所述，對于開合趨勢的安氏Ⅱ類患者植入微種植體的位置要盡量接近合平面，能更好地矯正開合，上頜合平面的順時針旋轉，不僅有利于垂直向控制，還會帶來更協調的側貌[5]。對于低角安氏Ⅱ類患者植入微種植體的位置盡量遠離合平面便于壓低前牙，升高后牙，矯正深覆合，改變面型。植入微種植體的位置還需要考慮患者牙槽骨的解剖形態、患者的舒適度、軟組織的變化、微笑的吸引力，從而達到完美的矯正效果。