Aston半導體計量平臺Atonarp公司

Atonarp宣布推出Aston，這是一個創新的原位半導體計量平臺，集成了等離子體離子源。Ascon可實現原位分子過程控制，并有助于現有晶圓廠更高效地運行，從而推動產量的提高。Ascon是一個用于半導體生產的強大平臺，從頭開始構建，可替代多種傳統工具，并在一整套應用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、電介質及導體蝕刻和沉積、腔室清潔、腔室匹配和氣體減排。Aston通過在流程完成時進行準確檢測（包括腔室清潔）來優化生產，從而將所需的清潔時間縮短高達80%。Aston耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液，比現有解決方案更穩健，采用獨立雙離子源（包括一個常規電子轟擊離子源和一個無燈絲等離子體發生器），能夠在半導體生產遇到的惡劣條件下可靠運行。這使得Aston能夠以原位狀態在苛刻環境中使用。與傳統質量分析儀相比，使用Aston的維修間隔長達100倍。它包括自清潔功能，可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導致的污垢積累。由于Aston會生成自己的等離子體，因此在它工作時，過程等離子體可有可無，這使Aston成為原子層沉積（ALD）和某些可能使用弱等離子體、脈沖等離子體或不使用等離子體進行處理的金屬沉積工藝的理想選擇。Ascon還通過提供量化、可操作的實時數據來改進工藝一致性，通過人工智能（AI）促進強大的機器學習功能，以符合要求最苛刻的工藝應用。此外，由于實時數據統計分析和工藝腔室管理的高精度、高靈敏度和可重復性，這進一步改進了生產線并提高了產品產量。Ascon主要用于化學氣相沉積（CVD）和蝕刻應用，這兩種應用的年增長率均超過13%。此款光譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進行安裝，也可將其加裝到已運行的現有腔室。