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寬帶激勵(lì)下的低頻電磁檢測(cè)技術(shù)

2021-07-01 09:52:14焦敬品梁文圓李光海何存富
無(wú)損檢測(cè) 2021年6期
關(guān)鍵詞:深度信號(hào)檢測(cè)

焦敬品,梁文圓,李光海,吳 斌,何存富

(北京工業(yè)大學(xué) 機(jī)械工程與應(yīng)用電子技術(shù)學(xué)院,北京 100124)

低頻電磁檢測(cè)技術(shù)是一種基于交流漏磁與渦流檢測(cè)原理的快速電磁無(wú)損檢測(cè)技術(shù)[1-4]。低頻電磁檢測(cè)技術(shù)因具有檢測(cè)頻率低、受趨膚效應(yīng)影響較小、檢測(cè)設(shè)備體積小、掃查靈活以及檢測(cè)信號(hào)豐富等優(yōu)點(diǎn)而被廣泛使用[5-6]。SINGH等[7-8]利用低頻電磁檢測(cè)信號(hào)的幅值特征參量,實(shí)現(xiàn)了鐵磁性管道中軸向和徑向人工刻槽與磨損缺陷的定量表征。JINGPIN等[9]研究了在交流正弦勵(lì)磁場(chǎng)條件下,電磁檢測(cè)信號(hào)的幅值和相位兩種特征參量對(duì)不同深度上、下表面缺陷的檢測(cè)能力。結(jié)果表明,相位特征參量對(duì)下表面的缺陷更為敏感。HOSSEINI等[10]利用檢測(cè)信號(hào)中的阻抗實(shí)現(xiàn)了多層板結(jié)構(gòu)中埋藏缺陷的有效檢測(cè)及分類(lèi)。綜上所述,國(guó)內(nèi)外研究學(xué)者就低頻電磁檢測(cè)技術(shù)開(kāi)展了卓有成效的研究,但上述檢測(cè)方法對(duì)被測(cè)試件表面及近表面缺陷較為敏感[11],對(duì)構(gòu)件中埋藏缺陷的檢測(cè)能力有限。

針對(duì)鐵磁性構(gòu)件內(nèi)部埋藏缺陷檢測(cè)的問(wèn)題,筆者開(kāi)展了寬頻激勵(lì)下的低頻電磁檢測(cè)試驗(yàn)。通過(guò)數(shù)值仿真,研究了勵(lì)磁信號(hào)頻帶對(duì)低頻電磁場(chǎng)分布的影響。在此基礎(chǔ)上,提出了一種基于寬帶勵(lì)磁響應(yīng)對(duì)應(yīng)歐式距離的低頻電磁缺陷表征方法,并將其應(yīng)用于鐵磁性構(gòu)件的內(nèi)部埋藏缺陷檢測(cè)。

1 寬帶激勵(lì)下低頻電磁檢測(cè)技術(shù)

1.1 低頻電磁場(chǎng)數(shù)值仿真

在COMSOL有限元仿真軟件中,選用AC/DC(交流/直流)模塊中的電磁場(chǎng),建立低頻電磁檢測(cè)三維簡(jiǎn)化模型(見(jiàn)圖1)。該三維模型由低頻電磁檢測(cè)傳感器和待測(cè)鐵磁試件兩部分組成。其中,傳感器的勵(lì)磁部分為電磁鐵,主要由U型磁芯和在其上纏繞的激勵(lì)線圈組成,磁芯的材料為錳鋅鐵氧體。

圖1 低頻電磁檢測(cè)三維仿真模型

為得到平滑的仿真結(jié)果,在進(jìn)行網(wǎng)格劃分時(shí),應(yīng)使被測(cè)試件和磁芯中的網(wǎng)格尺寸小于周?chē)諝鈪^(qū)域的。此外,筆者對(duì)處于監(jiān)測(cè)區(qū)的空氣域的網(wǎng)格進(jìn)行了局部細(xì)化,網(wǎng)格劃分結(jié)果如圖2所示。

圖2 模型網(wǎng)格劃分結(jié)果

仿真模型中被測(cè)試件為厚度為12 mm的20號(hào)鋼板,仿真模型參數(shù)設(shè)置如表1所示。基于上述模型,分別以不同單一頻率的交變簡(jiǎn)諧波和不同帶寬的Chirp信號(hào)作為交流勵(lì)磁信號(hào),對(duì)待測(cè)試件進(jìn)行低頻電磁檢測(cè)數(shù)值仿真研究。

表1 仿真模型參數(shù)設(shè)置

通過(guò)對(duì)不同帶寬和激勵(lì)頻率下板狀結(jié)構(gòu)的低頻電磁檢測(cè)數(shù)值進(jìn)行仿真可以看出,被測(cè)試件中磁通密度分布具有明顯的趨膚效應(yīng),磁通密度在試件上表面最大,沿深度逐漸減小,在試件下表面最小,試件中x方向典型磁通密度分布如圖3(單頻激勵(lì))和圖4所示(激勵(lì)Chirp的帶寬為0150 Hz)。此外,勵(lì)磁的頻率和帶寬對(duì)磁通密度的大小也有很大影響。圖5為不同激勵(lì)條件下,被測(cè)試件中心位置處x方向的磁通密度沿試件深度的變化關(guān)系曲線。可以看出,兩種勵(lì)磁方式下,磁通密度均具有趨膚效應(yīng),其數(shù)值均隨深度的增加而減小;寬頻勵(lì)磁下,被測(cè)試件中的磁通密度明顯大于單頻勵(lì)磁下的磁通密度,且其數(shù)值在較深處仍較大。由此可見(jiàn),趨膚效應(yīng)對(duì)寬帶勵(lì)磁下磁場(chǎng)的影響較小,即寬帶勵(lì)磁下的磁場(chǎng)穿透能力較大,更適合檢測(cè)試件中的埋藏缺陷。

圖3 單頻交變激勵(lì)下被測(cè)試件x方向典型的磁通密度分布

圖4 寬頻激勵(lì)下被測(cè)試件x方向典型的磁通密度分布

圖5 單頻和寬頻激勵(lì)下磁通密度隨深度變化的關(guān)系曲線

1.2 寬帶勵(lì)磁下低頻電磁表征方法

在寬帶勵(lì)磁下,由待測(cè)試件得到的低頻檢測(cè)信號(hào)也屬于寬帶信號(hào),其蘊(yùn)含有更豐富的結(jié)構(gòu)特征信息。相較而言,單頻低頻電磁檢測(cè)得到的信號(hào)幅值和相位等常規(guī)參數(shù)難以充分反映檢測(cè)信號(hào)所包含的信息。因此,筆者借鑒聲學(xué)領(lǐng)域中檢測(cè)信號(hào)的處理方法,以參考區(qū)域的寬帶勵(lì)磁響應(yīng)作為參考信號(hào),對(duì)寬帶勵(lì)磁下的低頻檢測(cè)信號(hào)進(jìn)行相似度分析。通過(guò)對(duì)幾種相似度算法進(jìn)行比較,提出利用寬帶勵(lì)磁響應(yīng)的歐式距離作為特征參數(shù),用于表征鐵磁性構(gòu)件低頻電磁檢測(cè)信號(hào)的信息。其表達(dá)式為

(1)

式中:E為歐式距離表征參量;Hd為待檢測(cè)區(qū)域磁場(chǎng)強(qiáng)度;Hn為參考區(qū)域基準(zhǔn)磁場(chǎng)強(qiáng)度;Hdi為在頻率fi下待檢測(cè)區(qū)域的磁場(chǎng)強(qiáng)度;Hni為在頻率fi下參考區(qū)域的基準(zhǔn)磁場(chǎng)強(qiáng)度。

為說(shuō)明寬帶勵(lì)磁下低頻電磁檢測(cè)方法對(duì)埋藏缺陷的檢測(cè)能力,對(duì)厚板的表面缺陷和內(nèi)部埋藏缺陷進(jìn)行了數(shù)值仿真檢測(cè),待檢板仿真模型如圖6所示。兩模型尺寸均為620 mm×400 mm×12 mm(長(zhǎng)×寬×高),材料為20號(hào)鋼,兩模型的上下表面分別布置了4個(gè)槽型缺陷,其深度分別為4.8,6.0,7.2,9.6 mm。以寬帶chirp信號(hào)作為勵(lì)磁信號(hào),進(jìn)行不同帶寬勵(lì)磁下低頻電磁檢測(cè)數(shù)值仿真。提取兩模型中各缺陷上方1 mm提離處x方向的寬頻激勵(lì)響應(yīng),同時(shí),也提取兩模型中相同提離距離下無(wú)缺陷處的寬頻激勵(lì)響應(yīng)。以無(wú)缺陷處提取的信號(hào)作為參考,對(duì)缺陷上方提取的寬頻響應(yīng)進(jìn)行相似度分析。

圖6 待檢板仿真模型

寬頻激勵(lì)下低頻電磁檢測(cè)信號(hào)的歐式距離隨帶寬的變化規(guī)律如圖7所示。由圖7可以看出,不同缺陷處提取檢測(cè)信號(hào)的歐式距離隨激勵(lì)帶寬的增加呈遞增趨勢(shì),但對(duì)于兩種模型,歐式距離隨缺陷尺寸的變化規(guī)律明顯不同。

圖7 不同缺陷寬頻激勵(lì)下低頻電磁檢測(cè)信號(hào)的歐式距離隨帶寬的變化關(guān)系曲線

當(dāng)缺陷位于板狀結(jié)構(gòu)的表面時(shí)[見(jiàn)圖7(a)],隨缺陷深度的增加,不同缺陷處提取信號(hào)的歐式距離雖略有增加,但其增加量相對(duì)于其數(shù)值分布范圍很小;當(dāng)試件中缺陷為埋藏缺陷時(shí)[見(jiàn)圖7(b)],不同缺陷處提取信號(hào)的歐式距離隨缺陷深度的增加而增加,特別是當(dāng)缺陷深度較大時(shí),其增加幅度更明顯。分析其原因,筆者認(rèn)為兩種模型缺陷深度增加涉及區(qū)域的磁場(chǎng)強(qiáng)度不同是造成這種結(jié)果的主要因素。當(dāng)缺陷為埋藏缺陷時(shí),缺陷深度增加的區(qū)域更靠近構(gòu)件的上表面,其磁場(chǎng)強(qiáng)度更大;而當(dāng)缺陷位于上表面時(shí),缺陷尺寸增加的區(qū)域更遠(yuǎn)離試件上表面,受趨膚效應(yīng)的影響,其磁場(chǎng)強(qiáng)度較小。因此,寬頻勵(lì)磁響應(yīng)的歐式距離對(duì)埋藏缺陷深度的變化更敏感。

為說(shuō)明提出的寬帶激勵(lì)低頻電磁檢測(cè)技術(shù)對(duì)埋藏缺陷的檢測(cè)能力,對(duì)圖6所示的不同缺陷位置和兩模型進(jìn)行單頻50 Hz激勵(lì)低頻電磁檢測(cè)仿真,不同激勵(lì)下得到仿真檢測(cè)結(jié)果(見(jiàn)圖8)。由圖8可以看出,對(duì)于同一缺陷的檢測(cè),寬頻勵(lì)磁響應(yīng)的歐式距離特征參數(shù)比單頻勵(lì)磁響應(yīng)的幅值大兩個(gè)數(shù)量級(jí),且對(duì)缺陷深度變化更敏感。

圖8 單頻和寬頻激勵(lì)下不同位置缺陷的低頻電磁仿真檢測(cè)結(jié)果

需要指出的是,作為一種典型的相似度分析方法,歐式距離本質(zhì)上是一種統(tǒng)計(jì)指標(biāo),因此寬頻激勵(lì)下歐式距離對(duì)缺陷的深度較敏感。由式(1)可知,歐式距離必定隨帶寬的增加而增大,寬頻激勵(lì)下的歐式距離必定比單頻激勵(lì)下的歐式距離大,但寬頻下歐式距離與單頻下歐式距離相差的具體數(shù)量級(jí)與多種因素有關(guān),如帶寬范圍、待檢測(cè)材料的性能及缺陷尺寸及位置等。

2 低頻電磁檢測(cè)試驗(yàn)

2.1 試驗(yàn)系統(tǒng)

低頻電磁檢測(cè)試驗(yàn)系統(tǒng)主要由函數(shù)發(fā)生器、功率放大器、數(shù)字示波器、穩(wěn)壓電源、低頻電磁傳感器和待測(cè)試件等組成(見(jiàn)圖9)。其中,低頻電磁傳感器主要由U型錳鋅鐵氧體、勵(lì)磁線圈、磁敏元件及屏蔽層等組成。試驗(yàn)過(guò)程中,傳感器的提離距離為1 mm。被測(cè)試件為620 mm×400 mm×12 mm(長(zhǎng)×寬×高)的20號(hào)鋼試件,其上加工4個(gè)寬為4 mm,長(zhǎng)為25 mm的槽型缺陷,4個(gè)缺陷深度分別為板厚的40%(4.8 mm),50%(6 mm),60%(7.2 mm)和80%(9.6 mm),待檢試件實(shí)物如圖10所示。

圖9 低頻電磁檢測(cè)系統(tǒng)組成

圖10 待檢20號(hào)鋼試件實(shí)物

圖11 掃查方式示意

為模擬表面缺陷和內(nèi)部埋藏缺陷兩種工況,將待檢試件分別按圖11所示的兩種方式放置,進(jìn)行單頻勵(lì)磁和寬帶勵(lì)磁兩種模式的低頻電磁檢測(cè)試驗(yàn)。檢測(cè)時(shí),在各缺陷中心±15 mm的范圍內(nèi),以1 mm為步長(zhǎng)進(jìn)行掃查試驗(yàn),同時(shí)記錄各空間位置的低頻檢測(cè)信號(hào)。試驗(yàn)中,單頻正弦激勵(lì)信號(hào)的頻率為50 Hz,幅值為3 V,寬帶Chirp激勵(lì)信號(hào)的幅值為3 V,帶寬為0150 Hz。放大器的放大倍數(shù)為10倍。對(duì)于單頻勵(lì)磁下的低頻電磁檢測(cè)信號(hào),提取信號(hào)的幅值和相位用于表征試件不同空間位置的損傷狀態(tài);對(duì)于寬頻勵(lì)磁下的低頻電磁檢測(cè)信號(hào),以無(wú)缺陷位置的檢測(cè)信號(hào)為參考,計(jì)算空間不同位置檢測(cè)信號(hào)相對(duì)于參考信號(hào)的歐式距離,再用歐式距離表征試件不同位置的損傷狀態(tài)。

2.2 試驗(yàn)結(jié)果分析

不同位置缺陷低頻電磁檢測(cè)模式下得到檢測(cè)信號(hào)的幅值、相位差和歐式距離的空間分布分別如圖12,13所示。由圖12可以看出,當(dāng)缺陷位于試件表面時(shí),3種特征參量的空間分布極為相似,即在缺陷處呈單峰凸起,且隨深度增加表征參量峰值也呈遞增趨勢(shì)。因此,3種參數(shù)均可以用于缺陷位置的表征,兩種檢測(cè)方法均可以實(shí)現(xiàn)不同深度的表面缺陷檢測(cè);但相對(duì)于幅值和相位差兩種參數(shù),歐式距離空間分布的指向性更強(qiáng),因此,寬頻勵(lì)磁下低頻電磁檢測(cè)的空間分辨力更強(qiáng)。

圖12 含表面缺陷試件的低頻電磁檢測(cè)結(jié)果

圖13 含埋藏缺陷試件的低頻電磁檢測(cè)結(jié)果

由圖13可以看出,含有埋藏缺陷試件的3種特征參量的空間分布與含有表面缺陷試件的對(duì)應(yīng)參數(shù)的分布規(guī)律類(lèi)似,即在缺陷處呈單峰突起,但對(duì)于有埋藏缺陷的情形,3種特征參量隨缺陷深度的變化規(guī)律有明顯不同,能夠檢測(cè)出最小缺陷的深度也不同。當(dāng)缺陷深度為6.0 mm和4.8 mm時(shí),單頻勵(lì)磁響應(yīng)對(duì)應(yīng)幅值的空間分布在缺陷附近并未呈現(xiàn)明顯的指向性。因此,單頻勵(lì)磁響應(yīng)的幅值僅能實(shí)現(xiàn)尺寸為9.6 mm和7.2 mm的缺陷檢測(cè),即僅能實(shí)現(xiàn)埋藏深度為2.4 mm和4.8 mm的缺陷檢測(cè);當(dāng)缺陷深度為4.8 mm時(shí),單頻勵(lì)磁響應(yīng)對(duì)應(yīng)相位差的空間分布在缺陷附近并未呈現(xiàn)明顯的指向性。因此,單頻勵(lì)磁響應(yīng)的相位差不能實(shí)現(xiàn)埋藏深度為7.2 mm的缺陷檢測(cè);對(duì)于4種深度的缺陷,寬頻勵(lì)磁響應(yīng)的歐式距離的空間分布在缺陷處均呈現(xiàn)明顯的指向性。因此,寬頻勵(lì)磁響應(yīng)的歐式距離能夠?qū)崿F(xiàn)4種深度下埋藏缺陷的檢測(cè),同時(shí),與缺陷位于試件上表面的情形類(lèi)似,寬頻勵(lì)磁響應(yīng)對(duì)應(yīng)歐式距離的空間分布的指向性也更強(qiáng),對(duì)缺陷的空間分辨力也更強(qiáng)。

檢測(cè)結(jié)果表明,兩種檢測(cè)模式對(duì)試件中埋藏缺陷的檢測(cè)結(jié)果有很大的不同。對(duì)于寬頻激勵(lì)模式,雖然其埋藏缺陷檢測(cè)結(jié)果的幅值略小,但可以實(shí)現(xiàn)所有深度埋藏缺陷的檢測(cè),且其變化規(guī)律與上表面缺陷的相似;對(duì)于單頻檢測(cè)模式,則不能實(shí)現(xiàn)深度較大的埋藏缺陷的檢測(cè)。分析原因,筆者認(rèn)為單頻激勵(lì)下(50 Hz),檢測(cè)結(jié)果受趨膚效應(yīng)的影響較嚴(yán)重,難以實(shí)現(xiàn)埋藏深度較大缺陷的檢測(cè);而寬頻激勵(lì)下(0150 Hz),激勵(lì)信號(hào)含有更多的頻率成分,受趨膚效應(yīng)影響很小,可以實(shí)現(xiàn)文中所有埋藏深度缺陷的檢測(cè)。

3 結(jié)語(yǔ)

(1) 對(duì)無(wú)缺陷鐵磁性構(gòu)件進(jìn)行了不同激勵(lì)帶寬下低頻電磁檢測(cè)數(shù)值仿真。結(jié)果表明,寬頻勵(lì)磁下被測(cè)試件中磁通密度明顯大于單頻勵(lì)磁下的磁通密度,且其磁場(chǎng)穿透能力更強(qiáng)。

(2) 提出了一種基于寬頻響應(yīng)歐式距離的低頻電磁缺陷表征方法。數(shù)值仿真結(jié)果表明,寬頻勵(lì)磁響應(yīng)的歐式距離比單頻勵(lì)磁響應(yīng)的幅值大兩個(gè)數(shù)量級(jí),且對(duì)缺陷尺寸變化更敏感。

(3) 在單頻勵(lì)磁和寬頻勵(lì)磁兩種條件下,對(duì)鐵磁性構(gòu)件的表面缺陷和埋藏缺陷進(jìn)行了低頻電磁檢測(cè)試驗(yàn)。結(jié)果表明,寬頻激勵(lì)檢測(cè)技術(shù)能夠大幅提高低頻電磁場(chǎng)的穿透能力,寬頻勵(lì)磁響應(yīng)的歐式距離對(duì)內(nèi)部埋藏缺陷有較強(qiáng)的檢測(cè)能力和空間分辨能力。

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