概述結晶大理石的生產工藝及其要點控制方法

熊勛旺 吳焱 陳康 陳健 楊濤 李清蓮

摘 要：釉面拋光亮面類瓷磚色彩豐富、紋理清晰，備受消費者喜愛，隨著釉面磚的不斷發展，拋釉類瓷磚經歷了拋晶復合板，普通拋釉、晶剛釉、干粒拋，這幾類產品都在追求釉面透感和平整度上不斷改進。結晶大理石產品不僅具有良好的透感和幾乎沒有水波紋的鏡面效果，在光線偏暗的環境下，用燈光照射，擁有反光效果，猶如夜空中點點繁星，這會受到年輕消費者的青睞。

關鍵詞：結晶大理石;結晶干粒;工藝流程;控制要點

1 引 言

結晶大理石產品的生產工藝流程與常規拋釉磚類的工藝流程相類似，差異在施釉環節，分濕法工藝和干法工藝兩種，本文概述結晶大理石生產工藝流程并著重介紹兩種施釉工藝的優缺點和控制方法。

2 工藝流程概述

2.1工藝流程

見圖1。

2.2干法工藝與濕法工藝的優缺點分析

兩種工藝各有優缺點，需要根據生產釉線的干燥設備配置和對產品磚面水波紋的要求來選擇。如果追求產品磚面無水波紋，則選擇干法工藝，這樣可以增加釉層的厚度，在拋光時可深拋，達到鏡面效果。如果對磚面鏡面效果要求不高的話，可選擇濕法工藝。

3干法工藝的控制要點

3.1干法工藝的優缺點分析

優勢有兩點，其一干粒可布厚，每平方米可布干粒量到800克以上，在拋光時可深拋，解決水波紋問題;其二是進入坯體的水分少，不會炸磚。缺點是回收料多，干粒損耗大;如果膠水粘性不好的話，在窯頭前幾個倉位吹干粒的風險較大。

3.2釉線布料工藝控制

干法布料效果對布料設備和噴膠水設備要求高，需要確保布料效果均勻平整。由于結晶干粒是由透明釉干粒和結晶粒子混合而成，結晶粒子的比重在4.6-4.7g/cm3之間，而透明干粒比重在1.3-1.5g/cm3之間，結晶粒子比重要遠大于透明干粒，因此結晶干粒在運輸過程中容易造成結晶粒子下沉，所以在布料前需要進行攪拌均化。

噴膠水的控制要點：第一道膠水一般噴200-250克/平方米，第二道膠水噴量要根據干粒的量來控制，一般為干粒重量的四分之一，確保干粒層呈微濕狀態即可，膠水霧化要好，不能滴水，膠水滴在干粒上會產生團聚現象，影響燒后的釉面平整度。

釉線干燥窯溫度控制200-300℃之間，如果小干燥窯的供熱方式是熱風爐供熱或者燒成窯熱氣供熱，溫度可控制在250-300℃之間，如果是燃燒棒供熱的話，最好是不要超過250℃，否則會由于磚坯局部排水過快造成裂磚。

4濕法工藝的控制要點

4.1 濕法工藝的優缺點分析

濕法工藝的優點是工藝簡單，生產車間操作方便，材料損耗小;拋光后的閃光效果相對于干法要均勻一些，結晶粒子不會有團聚現象。其缺點是鐘罩淋釉時進入坯體的水分大，需要足夠的干燥溫度和干燥時間，保證入窯前的水分小于1%;結晶粒子比重大，特別容易沉淀。沉淀現象會在淋釉時和燒成時，淋釉時主要是受懸浮劑的懸浮性的影響，主要發生在鐘罩上和釉漿淋在磚面未干前。燒成時發生在懸浮劑分解后，懸浮劑的支稱失效后結晶粒子會追著磚坯的顛簸而下沉。為了解決該問題，需外加20-30%的生料透明釉，這樣既可以提高結晶干粒釉漿的懸浮性，又可防止懸浮劑經高溫后失效，結晶粒子有足夠的支撐力。

4.2 生料透明釉配方要求及其作用

生料透明釉的主要作用是提高閃光粒子的數量和均勻度，其還有改善防污性、促進墨水發色，通過控制生料透明釉的膨脹系數來調節磚型。配方百分比如下：

球磨細度控制在0.2-0.5克篩余/325目篩·比重杯，球磨細度越小越有利于其在干粒顆粒之間進行填充，有助于閃光粒子的閃光效果和改善防污的問題。

濕法工藝是將結晶干粒、懸浮劑、透明釉漿按一定的比例混合均勻后，通過鐘罩淋釉的方式淋在磚面上。由于懸浮劑是半油性，透明釉是水性，兩者不完全相融，隨著透明釉漿占比增加，透明釉漿就會被包裹在懸浮劑當中，從而增加混合液體的粘稠度。結晶干粒顆粒直徑在0.1-0.2mm之間，與懸浮劑、透明釉完全不相融，三者混合以后形成一種類似于疏溶膠體系。結晶干粒密度大，容易沉淀，結晶干粒包裹在透明釉、懸浮劑和透明釉與懸浮劑形成相斥的區域，從而達到相對穩定不沉淀的狀態（如圖3所示）。

以下是關于透明釉漿的加入量，試驗燒成拋光后閃光粒子數量和閃光效果的影響，以懸浮劑100份，結晶干粒100份為定量，透明釉漿加入量為變量。

實驗結果表明，透明釉漿的加入量直接影響閃光粒子的數量和閃光效果，其中最佳效果的加入量為40-60，也就是結晶干粒和懸浮劑總量的20-30%。

4.3 濕法鐘罩淋釉控制要點

由于結晶干粒混合均勻的釉漿相比普通釉漿是更容易沉淀，結晶干粒、懸浮劑、透明釉漿的混合方式最好在釉線附近，備一個可裝下3-4噸料的攪拌缸，攪拌均勻后直接管道送到鐘罩上釉缸內，上釉缸最好是采用立式泵，其攪拌力較大，攪拌式抽釉缸的攪拌速度再快也不如立式泵好。鐘罩上銅圈內、回釉槽需定時清理，防止沉淀過多堵塞或者外溢。

5拋光工序控制要點

拋光的深度對閃效果有較大的影響，淺拋閃光效果較好，但水波紋差，深拋閃光效果差，但水波紋好。為了兩者兼得，那么施釉量最好控制在750-900克/方的水釉，確保燒成后的釉層厚度在0.4-0.5mm，再使用切削力大的平板模塊5-7組，壓力根據拋光效果而定，一般控制在0-3kg不等。

6 小 結

實踐表明，影響閃光效果的主要因素有結晶粒子的加入量、透明釉漿的加入量和拋光深度，閃光效果在不同深淺色產品上有不同效果，由于深色與結晶粒子的對比度大，所以閃光效果更明顯。故在生產不同深淺的產品時可通過以上手段來調整閃光效果。