申請?zhí)? 202110491003.X
【公開號(hào)】CN113049542A
【公開日】2021.06.29
【分類號(hào)】G01N21/45
【申請日】2021.05.06
【申請人】蘇州大學(xué)
【發(fā)明人】吳紹龍;王杰;李劉晶;秦琳玲;張程;李孝峰
【摘 要】本發(fā)明公開了一種基于反射干涉光譜技術(shù)的硅基光學(xué)傳感器及制備方法,屬光學(xué)傳感技術(shù)領(lǐng)域。沿著復(fù)合光入射方向依次包括有序硅納米線陣列層、無序多孔硅層、平面硅基底,每根納米線內(nèi)部設(shè)置有隨機(jī)分布的納米孔,無序多孔硅層處于有序硅納米線陣列層下方,該層設(shè)有呈樹枝狀隨機(jī)分布的納米孔。用于反射干涉?zhèn)鞲袦y試時(shí),小分子可以滲透到無序多孔硅層,而目標(biāo)小分子和干擾大分子可同時(shí)滲入有序硅納米線陣列層。與雙層無序多孔硅結(jié)構(gòu)相比,本方案不僅明顯增強(qiáng)了待測液的流通性和傳感器靈敏度,還降低了響應(yīng)時(shí)間;與單層有序硅納米線陣列結(jié)構(gòu)或單層無序多孔硅結(jié)構(gòu)相比,具有同時(shí)檢測目標(biāo)小分子和干擾大分子的優(yōu)勢。