雷 敏,羅 云
(華中科技大學(xué) 生命科學(xué)研究共享平臺(tái),湖北 武漢 430074)
全息聚合物復(fù)合材料是可光聚合的單體與惰性組分(如液晶、納米粒子、離子液體等)在相干激光輻照下通過(guò)原位光聚合誘導(dǎo)相分離原理制備的結(jié)構(gòu)有序復(fù)合材料[1-5]。該類(lèi)復(fù)合材料在裸眼三維顯示[6-7]、調(diào)制激光[8-9]、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)[10]、溫/濕度傳感[11-12]、溶劑檢測(cè)[13-14]、各向異性導(dǎo)電[2,15-16]等前沿領(lǐng)域具有重要應(yīng)用。該類(lèi)復(fù)合材料的關(guān)鍵性能參數(shù)是衍射效率。為表征全息聚合物復(fù)合材料的衍射效率,通常將其制備成具有一維周期性結(jié)構(gòu)的全息光柵[1-3]。當(dāng)檢測(cè)光(通常為633 nm)從布拉格角方向照射全息光柵時(shí),在全息光柵的另外一側(cè)會(huì)同時(shí)觀察到衍射光和透射光。衍射效率定義為衍射光強(qiáng)與衍射和透射總光強(qiáng)的比值[3]。衍射效率越高,表明全息聚合物復(fù)合材料的性能越好。
闡明材料結(jié)構(gòu)與性能的關(guān)系對(duì)優(yōu)化材料性能非常必要。全息聚合物復(fù)合材料是原位形成的,其關(guān)鍵結(jié)構(gòu)處于亞微米及納米尺度,但微觀形貌復(fù)雜,導(dǎo)致精確構(gòu)建結(jié)構(gòu)與性能的關(guān)系仍存在挑戰(zhàn)。雖然已有文獻(xiàn)采用掃描電子顯微鏡(SEM)和原子力顯微鏡(AFM)表征了全息光柵的微觀結(jié)構(gòu)[7,17],但全息光柵微納結(jié)構(gòu)對(duì)衍射效率的影響尚未得到全面闡釋。
本文采用原子力顯微鏡對(duì)全息聚合物復(fù)合材料的光柵微結(jié)構(gòu)進(jìn)行了系統(tǒng)分析,結(jié)果表明:全息光柵溝槽頂部的粗糙度對(duì)光柵衍射效率影響較小,但溝槽底部的粗糙度在高衍射效率時(shí)對(duì)衍射效率影響較大;全息光柵的衍射效率主要取決于光柵的溝槽深度。
本文使用的全息光柵通過(guò)激光全息光聚合誘導(dǎo)相分離原理制備。在表征前,通過(guò)溶劑將惰性組分清除(該過(guò)程不會(huì)影響聚合物的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)),得到具有溝槽結(jié)構(gòu)的全息光柵。溝槽凸起部分為原位生成的聚合物網(wǎng)絡(luò),而溝槽凹陷部分代表原始的惰性組分[1]。全息光柵在被溶劑處理之前的衍射效率分別為30%、58%、71%、84%、94%和98%。
采用德國(guó)Bruker 公司的原子力顯微鏡Multimode 8 進(jìn)行測(cè)試。探針型號(hào) Scananalyst-Air,掃描模式ScanAsyst;掃描速率1 Hz;像素點(diǎn)512×512。對(duì)光柵樣品的表面形貌進(jìn)行測(cè)試,并采用NanoScope Analysis(Version 1.5)軟件分析樣品的光柵周期、溝槽頂部粗糙度、溝槽底部粗糙度及溝槽深度。
如圖1 所示,在被溶劑處理后,全息光柵呈現(xiàn)出顯著的溝槽結(jié)構(gòu)。溝槽凸起區(qū)為聚合物,溝槽凹陷區(qū)為原來(lái)的惰性組分。可以看出,衍射效率較低時(shí),溝槽深度較淺。隨著衍射效率的增加,溝槽深度逐漸增加,表現(xiàn)為在相同視角下Z 軸坐標(biāo)標(biāo)尺變大。光柵溝槽頂部也可以看到明顯的結(jié)構(gòu),說(shuō)明存在一定的粗糙度。隨著光柵衍射效率的增加,這種“毛刺”結(jié)構(gòu)有所減少。結(jié)果表明,相分離不僅發(fā)生在內(nèi)部,也發(fā)生在表面。

圖1 不同衍射效率時(shí)全息光柵的3D 原子力顯微鏡照片
通過(guò)NanoScope Analysis(Version 1.5)軟件分析了全息光柵的微觀形貌。結(jié)果表明,在這批全息光柵中,隨著衍射效率的變化,光柵周期在850~900 nm之間波動(dòng),差異并不顯著(見(jiàn)圖2)。
分析了不同衍射效率下的溝槽頂部粗糙度、溝槽底部粗糙度和溝槽深度。結(jié)果表明,隨著衍射效率的提高,溝槽頂部的粗糙度變化并不顯著,在2~5 nm之間波動(dòng)(見(jiàn)圖3(a));當(dāng)衍射效率低于58%時(shí),溝槽底部粗糙度不變,約為7 nm;當(dāng)衍射效率進(jìn)一步提高時(shí),溝槽底部粗糙度增加至20~23 nm(見(jiàn)圖3(b))。溝槽深度隨著衍射效率的增加逐步從40 nm 增加到120 nm 左右(見(jiàn)圖3(c))。在衍射效率為71%和84%時(shí),溝槽深度和底部粗糙度都產(chǎn)生了波動(dòng),具體原因有待進(jìn)一步分析。總體而言,溝槽深度對(duì)衍射效率的影響更顯著。溝槽深度增加,表明相分離程度提高,則全息光柵的性能總體上得以提升。

圖2 光柵周期與全息光柵衍射效率的關(guān)系

圖3 光柵溝槽結(jié)構(gòu)參數(shù)與全息光柵衍射效率的關(guān)系
根據(jù)圖1 可知,衍射效率較低的全息光柵具有更為顯著的“毛刺”結(jié)構(gòu),表明相分離較差。為更深入理解全息性能與光柵微觀形貌的關(guān)系,將粗糙度/溝槽深度比對(duì)衍射效率作圖(見(jiàn)圖4)。從圖中可以看出,溝槽底部粗糙度/溝槽深度比在不同衍射效率時(shí)波動(dòng)較大,但頂部粗糙度/溝槽深度比與衍射效率存在一定的相關(guān)性。當(dāng)頂部粗糙度/溝槽深度比較高(>0.09)時(shí),全息光柵的衍射效率較低(<60%);當(dāng)該比值低于0.04時(shí),全息光柵具有較高的衍射效率(>80%)。

圖4 粗糙度/溝槽深度比與全息光柵衍射效率的關(guān)系
全息光柵的衍射效率依賴(lài)于其微納結(jié)構(gòu)的有序度。相分離程度較低時(shí),全息光柵頂部有更多“毛刺”結(jié)構(gòu)。光柵底部粗糙度在衍射效率較低(<60%)時(shí)未隨衍射效率增加而變化,但在高衍射效率時(shí)有明顯增加。隨著衍射效率的增加,溝槽深度總體上顯著增加。與溝槽深度相比,頂部粗糙度/溝槽深度比更能體現(xiàn)衍射效率與光柵微觀形貌的相關(guān)性。當(dāng)該比值高于0.09 時(shí),全息光柵衍射效率較低(<60%);而當(dāng)該比值低于0.04時(shí),全息光柵的衍射效率較高(>80%)。需要指出的是,衍射效率高于80%時(shí),隨著衍射效率的增加,頂部粗糙度/溝槽深度比略有增加,這可能是正常的波動(dòng)。后續(xù)工作需對(duì)更多全息光柵進(jìn)行分析,并進(jìn)行大量統(tǒng)計(jì),以獲得更明確、定量化的結(jié)構(gòu)性能關(guān)系。