一種射流空化技術制備二維納米二硫化鉬的方法

專利申請號:CN201110347902.9

公開號:CN102398920A

申請日:2011.11.07

公開日:2012.04.04

申請人:北京航空航天大學

一種射流空化技術制備二維納米二硫化鉬的方法，它有七大步驟:(1)按重量比將二硫化鉬粉等三種原料配制成二硫化鉬水溶液放入儲料罐中;(2)二硫化鉬水溶液由儲料罐進入柱塞泵加壓至指定壓力;(3)二硫化鉬水溶液進入空化發生器中發生片層的剝離，得到含單層和多層二維納米二硫化鉬溶液;(4)水冷含單層和多層二維納米二硫化鉬溶液至室溫;(5)將步驟四得到的溶液再進入儲料罐、柱塞泵和空化發生器，重復步驟(3)、(4)，形成制備過程的循環;(6)系統運行5～100 min后加工完成，關閉系統;(7)從儲料罐中取出經步驟六得到的溶液倒入沉淀罐，經沉淀后得到的上清液即為所需的二維納米二硫化鉬溶液。本發明工藝先進，成本低，無污染，能實現工業化大規模生產。