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KOH溶液中等離子體電解氧化涂層的制備及放電特性

2015-12-05 09:18:10王世琴陳達(dá)明
電鍍與精飾 2015年8期

王 麗, 李 堅, 王世琴, 寧 雨, 陳達(dá)明

(1.廣東石油化工學(xué)院化學(xué)工程學(xué)院,廣東茂名 525000;2.廣東省茂名市質(zhì)量計量監(jiān)督檢測所,廣東茂名 525000)

引 言

等離子體電解氧化技術(shù)(Plasma electrolytic oxidation,簡稱PEO)是一種新興的金屬表面改性技術(shù),能通過微放電在輕金屬表面原位生長陶瓷涂層[1-2]。PEO工藝簡單,處理的陶瓷涂層性能優(yōu)越,該項技術(shù)被國內(nèi)外研究者所普遍使用。目前研究較多的電解液有鋁酸鈉型[3]、磷酸鈉型[5]及硅酸鈉型[5],對 KOH 電解液的研究也時有報道[6]。Moon等[6]在恒流條件下,以NaOH為電解液,在鋁合金表面制備PEO膜層,對放電火花機理進(jìn)行了研究,結(jié)果表明擊穿電壓主要由電解液中OH-濃度決定。王曉波等[7]在KOH混合電解液中在鎂合金表面制備了PEO膜層,研究了添加劑對PEO過程起弧電壓的影響。結(jié)果表明,KOH的引入可使膜層孔隙率提高,膜中大尺寸孔隙數(shù)目減少。綜合KOH電解液研究進(jìn)展可知,目前對KOH電解液的研究大多集中于工藝參數(shù)方面,而對KOH體系等離子體場及放電特性研究較少涉及。

本文以AZ31鎂合金為基體,在KOH電解液中制備PEO陶瓷涂層。對PEO等離子體場成分、過程放電特性及陶瓷涂層晶相組成、表面形貌及耐腐蝕性能進(jìn)行了研究。

1 實驗

1.1 試樣制備

實驗采用AZ31鎂合金(組成為3.1074%Al,0.4219%Mn,0.9075%Zn,余量為鎂)。電源為自制的高壓直流電源,電流、電壓可調(diào)量程分別為0~3A、0~500V。PEO 實驗裝置在文獻(xiàn)[1-2]中已有描述。陽極為AZ31鎂合金,陰極采用不銹鋼板。試樣尺寸為10mm×10mm×5mm。實驗開始快速升高電壓至65~75V,工作電極在此電壓下處理20min。AZ31鎂合金試樣前處理用砂紙逐級打磨,乙醇或丙酮溶液超聲波清洗,隨后水洗干燥后備用,處理后的樣品置于干燥器中。通過冷凝水冷卻保持電解液θ在(30±5)℃。溶液濃度為1mol/L KOH,添加2%乙二醇溶液調(diào)節(jié)電解液電導(dǎo)率,防止尖端放電發(fā)生。

1.2 PEO涂層分析與測試

借助LEO 1530VP場發(fā)射掃描電鏡(德國)觀察陶瓷涂層表面形貌,采用D/MAX23A X-射線衍射儀進(jìn)行膜層組分分析。放電火花等離子體場成分由QE 65000光發(fā)射光譜儀進(jìn)行監(jiān)測(積分 t為1 s)。

采用Autolab電化學(xué)綜合系統(tǒng)對涂層腐蝕性能進(jìn)行測試,三電級體系。陶瓷涂層在3.5%NaCl溶液中的腐蝕行為采用動電位極化曲線進(jìn)行研究,掃描電位為該體系開路電位(Open circuit potential)的300mV。用環(huán)氧樹脂密封[1-2]保證試樣測試A為0.5cm2,數(shù)據(jù)擬合用Autolab分析軟件進(jìn)行處理。

2 結(jié)果與討論

2.1 放電特性研究

圖1為KOH溶液中放電電流密度-時間、電壓-時間的變化曲線。從圖1中可以看出,第1階段為陽極氧化階段(AB段),在此階段,電流隨電壓增大而增大,電流電壓遵循傳統(tǒng)的法拉第定律。第二階段為過渡階段(BC段),此階段主要是氣體層及介質(zhì)阻擋層的擊穿,氣體層及介質(zhì)阻擋層陸續(xù)被擊穿啟動氣泡內(nèi)的連續(xù)等離子體放電,引發(fā)電子雪崩,此時進(jìn)入放電階段(CD段),基體表面產(chǎn)生大量均勻跳躍放電火花。在后續(xù)的放電過程中,電流密度值趨于穩(wěn)定,火花尺寸變大密度減少。

圖1 PEO膜層形成過程放電特性曲線

2.2 涂層成分分析

對涂層表面進(jìn)行了X-射線衍射(XRD)分析,如圖2所示。從圖2中可以看出,涂層主要由MgO組成,另有少量Mg(OH)2和其它雜質(zhì)峰。依此推測,基體表面生成介質(zhì)阻擋層成分如方程式(1)~(2)所示:

在KOH溶液中,經(jīng)過PEO處理得到銀色涂層,涂層表面較光滑。

圖2 PEO涂層晶相組成

2.3 涂層形貌分析

圖3為PEO涂層表面微觀形貌,涂層表面存在的孔洞為等離子體火花放電通道,從圖3中(a)(b)區(qū)域可以看出,孔洞中大孔內(nèi)套著小孔,由此更進(jìn)一步證明,熔融的氧化物產(chǎn)物會快速補充擊穿的介質(zhì)阻擋層,隨后致密的介質(zhì)阻擋層又再次形成,此后的擊穿大部分會發(fā)生在介質(zhì)阻擋層缺陷最多的地方(如裂縫、薄弱處、雜質(zhì)或不均勻處等)[2],這樣就形成了大孔套小孔的放電通道,而且涂層具有層次感,從圖3中(c)區(qū)域可知,涂層放大5000倍可見涂層外表面是一層一層向外疊加的。從圖3中(d)區(qū)域可知,涂層表面附著一些白色顆粒,這些顆粒是Mg(OH)2或MgO,可能是由于電解液攪拌使氧化物顆粒附著在基體表面,也可能是由于電場的作用使他們吸附在基體表面,而且這些氧化物顆粒沒有來得及被熔融燒結(jié)。

圖3 PEO涂層表面微觀形貌

2.4 涂層腐蝕性能分析

圖4為陶瓷涂層的動電位極化曲線。根據(jù)電化學(xué)工作站的軟件對極化曲線進(jìn)行擬合,陶瓷涂層的腐蝕電位為-1.42V,腐蝕電流密度為0.00183A/m2,腐蝕電阻為21.7kΩ。相比于基體材料(腐蝕電流密度為 63.2A/m2,腐蝕電位為 -1.64V,腐蝕電阻為 109.8Ω)[2],腐蝕電位正移 0.22V。結(jié)果表明,基體表面致密均勻MgO陶瓷涂層的形成使經(jīng)過PEO處理的AZ31鎂合金耐腐蝕性能得到改善。

圖4 PEO涂層動電位極化曲線

2.5 PEO放電階段光發(fā)射光譜

圖5為放電階段采集到的光發(fā)射光譜圖(75V),根據(jù)原子及分子光譜手冊[8]查找,由 OES測得的放電火花的等離子體活性物種主要由O+2383.1nm,Na 589.0nm,Mg 519.4nm,K 769.9nm 組成,這些活性物種在等離子體場內(nèi)不斷碰撞、激發(fā)和解離,發(fā)生能量的遷移和傳遞,故而這些活性物種對等離子體場能量的穩(wěn)定起到關(guān)鍵作用。

圖5 75V時采集到的光發(fā)射光譜圖

3 結(jié)論

1)電流、電壓特性曲線表明,等離子電解氧化膜形成過程分為三個階段。第一階段為陽極氧化階段,此階段電流電壓遵循傳統(tǒng)的法拉第定律;隨后進(jìn)入第二個過渡階段,此階段基體工件表面被氣體層覆蓋,氣體層引發(fā)電離繼而引發(fā)電子雪崩;進(jìn)入第三個放電階段,此階段電流密度值趨于穩(wěn)定,火花尺寸變大密度減少。

2)陶瓷涂層主要由MgO和Mg(OH)2組成,涂層表面具有層次感。

3)相對于基體而言,PEO涂層腐蝕電流密度提高4個數(shù)量級,腐蝕電阻提高2個數(shù)量級。

4)放電階段等離子體活性物種主要由O+2383.1nm,Na 589.0nm,Mg 519.4nm,K 769.9nm 組成。活性物種對等離子體場能量的穩(wěn)定起到關(guān)鍵作用。

[1] Wang L,Chen L,Yan Z C,et al.Optical emission spectroscopy studies of discharge mechanism and plasma characteristics during plasma electrolytic oxidation of magnesium in different electrolytes[J].Surf Coatings Technol,2010,205(6):1651-1658.

[2] 王麗,付文,陳礪.鎂合金表面ZrO2涂層的等離子體電解氧化制備及其放電特性[J].硅酸鹽學(xué)報,2012,40(12):108-112.

[3] 張瀠月,蔣永鋒,包曄峰,等.磷酸鹽溶液中純鋁微弧氧化陶瓷層磨損特性研究[J].熱加工工藝,2013,42(4):141-144.

[4] 劉興華,朱立群,劉慧從,等.鋁合金微弧氧化放電火花對膜層粗糙度的影響[J].哈爾濱工程大學(xué)學(xué)報,2014,35(4):1-5.

[5] 陳礪,彭家志,嚴(yán)宗誠,等.鎂合金的等離子體電解氧化工藝優(yōu)化及膜的耐腐蝕性[J].華南理工大學(xué)學(xué)報,2009,37(12):49-52.

[6] Moon S,Jeong Y.Generation mechanism of microdischarges during plasma electrolytic oxidation of Al in aqueous solutions[J].Corrosion Science,2009,51(7):1506-1512.

[7] 王曉波,全風(fēng)美,姜云波,等.KOH對鎂合金微弧氧化過程及膜層耐蝕性的影響[J].表面技術(shù),2013,42(4):43-46.

[8] Pearse R W B,Gaydon A G.The identification of molecular spectra[M].Fourth Edition,London:Chapman and Hall Publishing House,1976:10-50.

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