氧氣壓力對PLD生長Ga2O3薄膜質量影響的研究
2016-08-23 02:41:43王磊
科學家 2016年6期
王磊
摘要：本文使用脈沖激光沉積（PLD）的方法在藍寶石（O001）晶面上制備B-Ga2O3薄膜，并且系統的研究了制備過程中氧氣壓力對它的結構和性質的影響。由于氧化鎵薄膜生長的條件不同，所生長出的薄膜在性質上也會有差異，本文借助x射線衍射，透射電子顯微鏡，原子力顯微鏡等裝置對不同的氧氣壓力條件下生長的薄膜的質量和表面形態的影響進行了系統的研究。脈沖激光沉積可以在襯底溫度較低為時生長薄膜，并可以通過控制氧氣壓力來控制鎵原子與氧原子的結合，從而生長出質量最優的氧化鎵薄膜。
關鍵詞：氧氣壓力；PLD；氧化鎵；薄膜質量
中圖分類號TN3 文獻標識碼A 文章編號2095-6363（2016）06-0163-03
