高級氧化工藝降解水中磺胺甲基嘧啶研究*

何勇　唐敏康　莊珍珍　高乃云

(1.江西理工大學　江西贛州 341000；　2.同濟大學　上海 200092)

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安全技術及工程

高級氧化工藝降解水中磺胺甲基嘧啶研究*

何勇1唐敏康1莊珍珍1高乃云2

(1.江西理工大學江西贛州 341000；2.同濟大學上海 200092)

為有效去除水體污染物磺胺類抗生素(Sulfonamides antibiotics, SAs)，采用高級氧化----紫外/雙氧水(UV/H2O2)和紫外/過硫酸鹽(UV/PS)工藝降解磺胺甲基嘧啶(sulfamerazine,SM1)。研究表明，紫外與氧化劑(H2O2，PS)聯用可顯著提高去除率，其反應符合擬一級動力學模型。磺胺甲基嘧啶的去除率在一定范圍隨著氧化劑H2O2和PS的濃度升高而升高；磺胺甲基嘧啶初始質量濃度越大，反應速率越小。兩種工藝降解磺胺甲基嘧啶最大去除率均發生在pH=3。NaCl會抑制兩種工藝對目標污染物的降解，而適當的NaHCO3可促進其降解反應的進行。腐植酸的存在對兩種工藝降解污染物均會產生抑制作用。

磺胺甲基嘧啶氧化降解雙氧水過硫酸鹽

0　引言

磺胺類抗生素(SAs)含有對氨基苯磺酰胺基結構，在水中易富集，易導致微生物對其產生抗體，嚴重影響生態平衡和人類健康[1]。因此，開展降解水中抗生素的研究具有重大意義。

本研究以磺胺甲基嘧啶(SM1)作為SAs代表，基于UV/H2O2和UV/PS工藝降解水體中的SM1，考察了氧化劑投加量、SM1的初始質量濃度、pH、陰離子含量和腐植酸濃度等影響因素，研究兩種不同工藝降解污染物磺胺甲基嘧啶效果與機理。

1　實驗材料與方法

1.1實驗材料與設備

甲醇、乙酸均為色譜純，購自美國Sigma-Aldrich有限公司；磺胺甲基嘧啶、過硫酸鈉、H2O2、氯化鈉、碳酸氫鈉、乙醇、叔丁醇等為分析純，購于上高效液相色譜(HPLC，Waters 2695)配C18色譜柱(Symmetry)，紫外光源，低壓汞燈(Philips)，培養皿，pH計，電子天平等。……