TiO2Si復(fù)合材料的制備及其性能分析

陸迪　孔德龍　孫向博

摘 要：Si（硅）是一種比較常見的半導(dǎo)體材料，在許多個(gè)領(lǐng)域之中得到了廣泛的應(yīng)用，如太陽能電池、光電材料等，并在這些領(lǐng)域之中發(fā)揮著非常重要的作用。但是，因?yàn)榭諝庹凵湎禂?shù)與硅的折射系數(shù)兩者之間存在著非常大的差別，從而導(dǎo)致光波在界面處出現(xiàn)了比較嚴(yán)重的反射損失。為降低界面反射損失，必須在硅半導(dǎo)體材料的表面加鍍一層漸變層材料，且該漸變層材料的折射率應(yīng)當(dāng)處于1.0～3.5之間。TiO2，即鈦白粉，其折射率為2.73，且具有成本低、耐腐蝕、無毒、光催化活性較高、化學(xué)性能穩(wěn)定以及氧化還原電位高等一系列的優(yōu)勢，因此，其被看作是一種十分理想的光催化劑。

關(guān)鍵詞：TiO2/Si復(fù)合材料 制備 性能 光催化

中圖分類號：TM912.9 文獻(xiàn)標(biāo)識碼：A 文章編號：1672-3791（2016）06（b）-0061-02

近年來，復(fù)合型催化材料憑借著其所具有的表面活性高、層間距大、孔徑大以及表面積較大等一系列優(yōu)勢性能，在光學(xué)元件、電化學(xué)、光催化氧化等方面上展示出了良好的應(yīng)用潛力與廣闊的應(yīng)用前景，且已經(jīng)成為了光催化材料領(lǐng)域的關(guān)注焦點(diǎn)與研究熱點(diǎn)。該篇論文通過開展實(shí)驗(yàn)，對TiO2/Si復(fù)合材料的制備及其性能進(jìn)行了分析。

1 實(shí)驗(yàn)材料

首先，該研究所用實(shí)驗(yàn)儀器及設(shè)備主要包括：（1）日本日立株式會社生產(chǎn)的掃描電子顯微鏡（S4800型）；（2）德國布魯克AXS公司生產(chǎn)的X射線衍射儀（D8型）；（3）北京暢拓科技公司生產(chǎn)的電化學(xué)工作站（CHFXM500W 型）；（4）北京普析通用儀器公司生產(chǎn)的紫外可見分光光度計(jì)（U1901型）。

其次，該研究所用實(shí)驗(yàn)試劑主要包括：（1）鈦酸四丁酯；……