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電沉積法制備V2O5薄膜及其儲鈉性能研究

2015-12-05 09:18:10李延偉李世玉潘觀林姚金環(huán)張靈志
電鍍與精飾 2015年8期

李延偉, 李世玉, 潘觀林, 姚金環(huán), 張靈志

(1.廣西電磁化學(xué)功能物質(zhì)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室桂林理工大學(xué)化學(xué)與生物工程學(xué)院,廣西 桂林 541004;2.中國科學(xué)院可再生能源重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,廣東廣州 510640)

引 言

與鋰離子電池相比,鈉離子電池具有原料資源豐富,成本低廉,安全性好等優(yōu)勢,是鋰離子電池的理想替代品,近年來受到人們的廣泛關(guān)注[1-2]。鈉離子電池正極材料主要有層狀NaxMO2(M為Co、Ni、Fe、Mn 及 V 等)、橄欖石型 NaMPO4(M 為 Fe、Mn等)、NASICON 類 NaxM2(PO4)3(M 為 V、Ti等)和金屬氟化物等[3]。其中,具有層狀結(jié)構(gòu)的V2O5非常有利于 Na+離子在層間進(jìn)行嵌脫[4-5]。此外,V2O5還具有儲量豐富,價格相對低廉,容易制備等優(yōu)點(diǎn),因此是一類非常有應(yīng)用前景的鈉離子電池電極材料[6]。目前,合成V2O5薄膜材料的方法主要有電沉積法[7]、濺射法[8]、電泳沉積法[9]和溶膠凝膠法[10]等。其中電沉積法具有工藝簡單,操作條件容易控制及成本低等優(yōu)勢[11-12]。本文以 V2O5、H2O2為原料,采用溶膠-凝膠法制備V2O5凝膠,通過電沉積法制備V2O5薄膜,觀察其微觀結(jié)構(gòu)并研究電沉積溫度、時間、電壓和鍍液濃度對V2O5薄膜儲鈉性能的影響。

1 實(shí)驗(yàn)

1.1 V2O5凝膠的制備及V2O5薄膜的電沉積

稱取0.2547g V2O5粉體,加入3.85mL 去離子水和1.15mL H2O2,在室溫水浴中攪拌反應(yīng)15min后,超聲振蕩10min加入20mL去離子水,繼續(xù)超聲振蕩60min得到紅棕色V2O5凝膠。將制備好的凝膠稀釋至所需濃度,分別為 0.005、0.008、0.012 和0.016mol/L作為電解液,以鉑片作陽極,304不銹鋼基體(尺寸為1cm×1cm×0.5mm)作陰極,采用恒壓電沉積法,穩(wěn)壓直流電源/IT6121(南京艾德克斯電子有限公司),在不同實(shí)驗(yàn)條件(溫度、時間、電壓和鍍液濃度)下,電沉積V2O5薄膜,將電沉積的V2O5薄膜自然干燥24h后再在60℃干燥24h即得到V2O5薄膜電極。

1.2 V2O5薄膜的結(jié)構(gòu)及嵌鈉性能表征

采用荷蘭PANalyteica X'Pert Pro多功能 X-射線衍射儀(Cu靶,λ=1.54056?,電壓 40kV,電流30mA)分析V2O5薄膜材料晶體結(jié)構(gòu),測試掃描速度為 10°/min,掃描范圍為 5°~90°。采用 S-4800型場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM,日本日立)觀察V2O5薄膜材料的表面形貌。采用 HXD-1000TMC顯微硬度儀(上海泰明)測定薄膜硬度,通過方格法檢測V2O5薄膜與不銹鋼基體的結(jié)合力。采用CHI660D電化學(xué)工作站(上海辰華有限公司)在三電極體系中進(jìn)行循環(huán)伏安(CV)和充放電測試,測試所用電解液為1mol/L的NaClO4/PC(碳酸丙烯酯)溶液;參比電極為Ag/Ag+電極,Ag/Ag+電極中溶液的組成為0.01mol AgClO4+0.1mol LiClO4的碳酸丙烯酯PC溶液;輔助電極為鉑片;工作電極為電沉積的 V2O5薄膜。CV測試的電壓掃描范圍為-1.5 ~0.5V(vs Ag/Ag+),掃描速度為5mV/s;充放電測試的電壓掃描范圍為-1.5~0.5V(vs Ag/Ag+),電流為500mA/g。

2 結(jié)果與討論

2.1 V2O5薄膜微觀結(jié)構(gòu)和形貌分析

圖1為電沉積法制備的V2O5薄膜樣品的X-射線衍射(XRD)譜圖。從圖1中可以看到,樣品在 2θ分別為 8.04°、24.48°和 33.81°附近出現(xiàn)三個較明顯的衍射峰,與V2O5·nH2O標(biāo)準(zhǔn)XRD圖譜(JCPDS card No.40-1296)的(001)、(003)和(004)晶面衍射峰相一致[13],說明制備的 V2O5薄膜為非晶態(tài)的V2O5水合物。根據(jù)樣品的XRD譜圖中的(001)衍射峰峰位可計(jì)算其層間距 d=10.99?,這與文獻(xiàn)報道值(8.8? ~13.5?)[5,14-19]相符,樣品的平均晶粒尺寸約為7.3nm。在2θ分別為43.51°和 74.63°附近出現(xiàn)兩個明顯的衍射峰對應(yīng)的是不銹鋼基體的衍射峰。

圖1 V2O5薄膜的XRD譜圖

圖2是V2O5薄膜樣品的FESEM照片。圖2(a)為從不銹鋼基體上剝離的V2O5薄膜的截面圖,從圖2(a)中可以看到,該薄膜具有片狀的疊層納米結(jié)構(gòu)。圖2(b)為V2O5薄膜在高放大倍率下的表面形貌照片,仔細(xì)觀察可以發(fā)現(xiàn),薄膜表面的片狀疊層結(jié)構(gòu)是由納米纖維構(gòu)成,這些納米纖維狀結(jié)構(gòu)是V2O5水化物(V2O5·nH2O)的特征結(jié)構(gòu)[14]。

圖2 V2O5薄膜樣品形貌照片

2.2 溫度對V2O5薄膜沉積速度和儲鈉性能的影響

當(dāng)鍍液凝膠 c為 0.008mol/L,電沉積 U為2.4V、t為10min 時,θ分別為 20、30、40 和 50℃下電沉積V2O5薄膜。圖3為V2O5薄膜面質(zhì)量隨電沉積溫度的變化關(guān)系曲線。從圖3中可以看出,薄膜面質(zhì)量隨著電沉積溫度的升高逐漸變大,二者呈線性關(guān)系。這是因?yàn)殡姵练e溫度升高,膠體粒子遷移加快,使得電沉積速度加快,薄膜面質(zhì)量增加。電沉積θ為20和30℃制備的薄膜具有較好的結(jié)合力,電沉積θ高于40℃時制備的薄膜結(jié)合力較差,容易從不銹鋼基體上脫落。

圖3 不同溫度制備的V2O5薄膜面質(zhì)量

不同溫度下制備的V2O5薄膜的循環(huán)伏安曲線和充放電特性測試結(jié)果見圖4。圖4(a)為不同溫度下電沉積制備的V2O5薄膜樣品的CV曲線。從圖4(a)中可以看出,所有樣品的CV曲線都有一對明顯的氧化、還原峰。其中電沉積θ為20℃時,制備的樣品CV曲線氧化、還原峰峰面積最大,峰位差值最小,說明其活性最高,電化學(xué)反應(yīng)可逆性最好;隨著電沉積θ的升高,制備的樣品CV曲線氧化、還原峰峰電位差值逐漸變大,表明樣品電化學(xué)反應(yīng)可逆性下降,同時峰面積也緩慢減小,表明樣品電化學(xué)反應(yīng)活性降低。圖4(b)為不同θ電沉積的V2O5薄膜樣品在電流密度為500mA/g下的充放電曲線。從圖4(b)中可以看出,電沉積θ為20和30℃的樣品放電比容量相對較高,分別為 129.7和134.7mAh/g;電沉積θ為40℃的樣品放電比容量明顯降低為106.9mAh/g;而電沉積θ為50℃的樣品放電比容量只有39.7mAh/g。這是因?yàn)殡姵练e溫度較高時薄膜厚度變大,Na+擴(kuò)散距離和電子傳遞路徑都明顯增大,因此薄膜的活性物質(zhì)利用率降低從而增大電化學(xué)反應(yīng)阻抗,降低了放電比容量。

圖4 不同溫度制備的V2O5薄膜的循環(huán)伏安特性和充放電性能

2.3 時間對V2O5薄膜沉積速度和儲鈉性能的影響

當(dāng)鍍液凝膠 c為0.008mol/L,電沉積 U為2.4V,室溫條件時,t分別為 10、15、20、25、30 和40min下電沉積V2O5薄膜。圖5為薄膜面質(zhì)量隨電沉積時間的變化關(guān)系曲線。從圖5中可以看出,薄膜面質(zhì)量隨電沉積時間的增加而增加。電沉積t超過25min后,薄膜質(zhì)量顯著增加,到40min時,薄膜的質(zhì)量為7.75g/m2。結(jié)合力測試表明,電沉積t從10~25min時,薄膜的結(jié)合力逐漸增加,其中25min時制備的薄膜結(jié)合力最好,電沉積 t超過25min后,薄膜的結(jié)合力開始變差。

圖5 不同時間制備的V2O5薄膜面質(zhì)量

不同時間下制備的V2O5薄膜的循環(huán)伏安曲線和充放電特性測試結(jié)果見圖6。圖6(a)為不同電沉積時間下制備V2O5薄膜樣品的CV曲線。從圖中可以看出,當(dāng)電沉積t為10和15min時,曲線出現(xiàn)兩對較明顯的氧化、還原峰,且峰面積較小,說明樣品電化學(xué)反應(yīng)活性較低。當(dāng)電沉積t從20min增加到30min時,樣品的CV曲線氧化、還原峰峰面積較大,峰面積隨時間增加先增大后減小,其中電沉積t為25min時樣品的CV曲線峰面積最大,說明該條件下制備的樣品電化學(xué)反應(yīng)活性最高。電沉積t為40min時樣品的CV曲線峰面積最小,說明該條件下制備的樣品電化學(xué)反應(yīng)活性最低。圖6(b)為不同時間電沉積的V2O5薄膜樣品在電流密度為500mA/g的充放電曲線。從圖6(b)中可以看出,當(dāng)電沉積t從10min增加到25min時,樣品的放電比容量逐漸升高,尤其是電沉積t為25min的樣品具有最大放電比容量為169.4mAh/g;電沉積t超過25min的樣品放電比容量逐漸下降,電沉積t為40min的樣品放電比容量只有48.5mAh/g。這是因?yàn)殡姵练e時間較短時,薄膜較薄且不均勻,從而降低了電化學(xué)性能;電沉積時間較長時,薄膜較厚,不利于Na+離子在V2O5薄膜層間進(jìn)行可逆的嵌入/脫出。

圖6 不同時間制備的V2O5薄膜的循環(huán)伏安特性和充放電性能

2.4 電壓對V2O5薄膜沉積速度和儲鈉性能的影響

當(dāng)鍍液凝膠 c為 0.008mol/L,電沉積 t為10min,室溫條件時,在電壓分別為 1.5、2.0、2.5、3.0和3.5V下電沉積V2O5薄膜。圖7是薄膜面質(zhì)量隨電沉積電壓的變化關(guān)系曲線。從圖7中可以看出,薄膜面質(zhì)量隨沉積電壓的增加先增加后下降,其中 U為 2.5V時,薄膜的面質(zhì)量最大為4.25g/m2。結(jié)合力測試結(jié)果表明,沉積電壓為 2.0和2.5V時制備的薄膜結(jié)合力較好,其他電沉積電壓制備的薄膜結(jié)合力都很差。

圖7 不同電壓制備的V2O5薄膜面質(zhì)量變化曲線

圖8(a)為在不同沉積電壓下制備的樣品的CV曲線。從圖8(a)中可以看出,沉積電壓為1.5V時制備的樣品CV曲線氧化、還原峰面積最小,表明該條件下制備的樣品電化學(xué)反應(yīng)活性最低;隨著電沉積電壓的升高,樣品的CV曲線峰面積先增大后減小,當(dāng)電壓為2.5V時制備的樣品CV曲線峰面積最大,表明該樣品電化學(xué)反應(yīng)活性最大。圖8(b)為不同電壓電沉積的樣品在電流密度為500mA/g的充放電曲線。從圖8(b)中可以看出,隨著電沉積電壓增加樣品的放電比容量先變大后減小,例如1.5V時制備的樣品放電比容量只有22.5mAh/g,2.5V 時制備的樣品放電比容量高達(dá)155.5mAh/g,當(dāng)電壓高于2.5V時制備的樣品放電比容量開始下降,3.5V時樣品放電比容量為100mAh/g。

圖8 不同電壓制備的V2O5薄膜的循環(huán)伏安特性和充放電性能

2.5 凝膠濃度對薄膜沉積速度和儲鈉性能的影響

當(dāng)電沉積t為10min、U為2.4V、室溫條件時,凝膠c分別為0.005、0.008、0.012和0.016mol/L 的溶液電沉積V2O5薄膜。圖9是薄膜質(zhì)量隨凝膠濃度的變化關(guān)系曲線。由圖9可知,薄膜面質(zhì)量隨鍍液濃度的增加而增加,基本呈線性關(guān)系。凝膠濃度低時薄膜質(zhì)量增加較慢,凝膠濃度高時薄膜質(zhì)量增加較快。這主要是由于鍍液凝膠濃度越大,膠體粒子越多,加速了薄膜生長,從而增加了薄膜的面質(zhì)量。結(jié)合力測試結(jié)果表明,鍍液c為0.008mol/L時,薄膜的結(jié)合力較好,其他濃度的鍍液制備的薄膜的結(jié)合力較差。

圖9 不同濃度的凝膠溶液中制備V2O5薄膜的面質(zhì)量

圖10(a)為在不同濃度的凝膠溶液中電沉積制備的樣品的CV曲線。從圖10(a)中可以看出,隨著鍍液凝膠濃度升高,樣品CV曲線的氧化峰電位逐漸正移,氧化還原峰峰位差變大,表明樣品電化學(xué)反應(yīng)可逆性降低。鍍液凝膠c為0.008、0.012和0.016mol/L時,制備樣品的CV曲線峰面積較大,說明樣品具有較大的電化學(xué)反應(yīng)活性。圖10(b)為不同濃度的凝膠溶液電沉積的樣品在電流密度為500mA/g的充放電曲線。從圖10(b)中可以看出,鍍液凝膠c為0.005mol/L時制備的樣品放電比容量只有40.8mAh/g,濃度為 0.008mol/L 時制備的樣品放電平臺較明顯,放電比容量為116mAh/g,c為0.012mol/L時制備的樣品放電比容量與0.008mol/L的接近,當(dāng) c為0.016mol/L時制備的樣品放電比容量只有84.7mAh/g。

圖10 不同濃度的凝膠溶液中制備的V2O5薄膜的循環(huán)伏安特性和充放電性能

3 結(jié)論

1)采用電沉積法制備了V2O5薄膜電極材料。XRD分析表明,該薄膜為非晶相 V2O5水合物;FESEM分析表明,V2O5薄膜具有片狀的疊層納米微觀結(jié)構(gòu),這些片狀結(jié)構(gòu)是由V2O5納米纖維堆疊組成的。

2)隨著電沉積溫度的升高和鍍液中凝膠濃度的增加,薄膜的沉積速度加快。電沉積θ為30℃或鍍液凝膠濃度為0.008mol/L時制備的薄膜具有較好的儲鈉性能。

3)隨著電沉積電壓的增加,薄膜的沉積速度先增加后降低。U為2.5V時,薄膜的沉積速度最大,且制備的薄膜具有較好的儲鈉性能。

4)隨著電沉積時間的增加,薄膜的厚度增大。電沉積t為25min時,制備的薄膜具有較好的儲鈉性能。

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