紫外光固化在微流控芯片技術(shù)中的應(yīng)用研究進(jìn)展

李 娜，曹一平，張瑋瑩，劉繼延，尤慶亮*，于 潔，申 超，郭文勇

（1.江漢大學(xué) a.柔性顯示材料與技術(shù)湖北省協(xié)同創(chuàng)新中心，b.光電化學(xué)材料與器件省部共建教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，c.化學(xué)與環(huán)境工程學(xué)院 湖北 武漢 430056；2.武漢天馬微電子有限公司 湖北 武漢 430079；3.華爍科技股份有限公司 湖北 武漢 430074）

紫外光固化在微流控芯片技術(shù)中的應(yīng)用研究進(jìn)展

李 娜1a，b，c，曹一平1b，c，張瑋瑩1c，劉繼延1a，b，c，尤慶亮*1a，b，c，于 潔1a，b；3，申 超1a；2，郭文勇1a

（1.江漢大學(xué) a.柔性顯示材料與技術(shù)湖北省協(xié)同創(chuàng)新中心，b.光電化學(xué)材料與器件省部共建教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，c.化學(xué)與環(huán)境工程學(xué)院 湖北 武漢 430056；2.武漢天馬微電子有限公司 湖北 武漢 430079；3.華爍科技股份有限公司 湖北 武漢 430074）

報(bào)道了紫外光（UV）固化在微流控芯片技術(shù)中的應(yīng)用，利用光刻技術(shù)可直接在聚合物材料上制作微通道，以減少微流控芯片的研究成本和制作周期。重點(diǎn)介紹了UV固化在微流控芯片發(fā)展過(guò)程中的光刻、曝光及表面改性等方面的應(yīng)用及其特點(diǎn)，綜述了近些年來(lái)UV固化在微流控芯片技術(shù)中的國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀，為微流控芯片的制備、發(fā)展及完善提供了一條可行的路徑。最后在總結(jié)國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀的基礎(chǔ)上展望了UV固化未來(lái)的發(fā)展趨勢(shì)。

UV固化；微流控芯片；研究現(xiàn)狀；PDMS

0 引言

自MANZ等［1］1990年代提出“微全分析系統(tǒng)”（miniaturized total analysis systems，μ-TAS）概念后，相關(guān)研究陸續(xù)被報(bào)道［2-4］。隨著微機(jī)電加工技術(shù)和分離分析檢測(cè)方法的迅速發(fā)展，實(shí)驗(yàn)室中制備微流控芯片的技術(shù)也漸趨完善，從而給微流控芯片向自動(dòng)化、便攜化方向發(fā)展提供了可能，這樣一種技術(shù)性的概念將引領(lǐng)未來(lái)微流控芯片的發(fā)展趨勢(shì)，相信不久的將來(lái)，由微流控芯片高度集成化、簡(jiǎn)便式的小型設(shè)備將會(huì)走進(jìn)家庭。……