國產IC光刻系統精密紫外反光鏡研制成功
沈陽儀表科學研究院經過2年多的技術攻關,成功研制出了擁有自主知識產權的集成電路(IC)光刻系統精密紫外反光鏡產品,其關鍵技術指標達到國際先進水平。
該IC光刻系統精密紫外反光鏡產品可耐450℃高溫,利用自主研發的新工藝實現了非球面成形。其反射波長范圍為300nm~440nm,反射率大于95%,達到了反射紫外光并濾除其它可見光的目的。據悉,該產品的成功開發,填補了該項技術的國內空白,標志著沈陽儀表院在精密非球面加工和檢測技術、非球面耐高溫薄膜鍍制等方面取得了技術突破,將有力推動我國光學薄膜行業的技術進步。目前,該院已形成口徑55mm~362mm系列精密紫外反光鏡產品,還將推出645mm大口徑產品。 (機 經)