專利信息

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專利名稱:無氧銅排生產工藝

專利申請號:2014101529578

公開號:CN 103921071 A

申請日:2014.04.16 公開日:2014.07.16

申請人:黃學志

本發明公開了一種無氧銅排生產工藝,包括生產銅合金步驟,加工成所需銅排型材步驟和最后加工成銅排成品的步驟.在生產銅合金步驟中,所述工頻感應熔化爐和工頻感應保溫爐為合一的組合爐,工頻感應熔化爐和工頻感應保溫爐的中間有隔斷,隔斷高度比組合爐的高度低；在工頻感應熔化爐中混合均勻后的銅和添加劑熔融液高度超過隔斷時,流入工頻感應熔化爐,然后由結晶器引桿,生產銅合金.每個結晶器引桿由一個脈沖伺服電機驅動,保持引桿的獨立、連續.本發明生產的無氧銅基合金和無氧銅排具有高強度、高導電率,彈性好,表面質量好,材料的利用率高.

專利名稱:一種高性能鉭靶材的制備方法

專利申請號:201210292279.6

公開號:CN 103028898 A

申請日:2012.08.16 公開日:2013.04.10

申請人:寧夏東方鉭業股份有限公司

本發明涉及一種高性能鉭靶材的制備方法.其特征是:先將鉭錠采用冷鍛結合熱鍛的方法制成鍛造坯料,然后再采用熱軋法進行軋制,最后校平,再根據成品尺寸下料、銑削和表面處理得到鉭靶材.本發明采用冷鍛結合熱鍛工藝對鉭錠進行鍛造,然后再采用熱軋工藝對鍛造坯料進行軋制,從而得到滿足高端濺射基臺使用要求的高性能鉭靶材.該高性能鉭靶材:第一,結晶均勻,晶粒尺寸在50～120 μm;第二,在靶材厚度方向獲得<100>織構占優的織構組分(所占比例在50% 以上),并且在厚度方向均勻一致.與普通鉭靶材相比較,高性能鉭靶材不但實現了靶材厚度方向<100>織構達到50%以上的織構組分,而且對織構均勻性也提出了更高的要求,從而確保了在使用中濺射速率的一致.

專利名稱:半導體裝置及其制造方法

專利申請號:2011800747419

公開號:CN 103918078 A

申請日:2011.11.09 公開日:2014.07.09

申請人:龜山悟

本發明提供了一種半導體裝置,其在同一半導體基板上形成有二極管區和絕緣柵雙極性晶體管區.在該半導體裝置中,二極管區具備第二導電型的陰極層.陰極層的第二導電型的雜質濃度分布成至少具有兩個以上的峰值的曲線狀,在陰極層的任意深度,第二導電型的雜質濃度均高于第一導電型的雜質濃度.

專利名稱:U形槽鋁

專利申請號:201220576917.2

公開號:CN 202868287 U

申請日:2012.11.05 公開日:2013.04.10

申請人:無錫市風云鋁業有限公司

本實用新型提供一種U形槽鋁,U形槽鋁具有外邊框和內邊框,外邊框與內邊框形成凹槽,U形槽鋁的截面呈h形,U形槽鋁內外邊框形成的凹槽兩側壁的內壁設有吸水層；吸水層的材質為吸水纖維,該吸水纖維具有一定的硬度;吸水層與U形槽鋁為分體式結構,在U形槽鋁安裝好玻璃后,吸水層可從U形槽鋁上拆卸.本實用新型涉及的這種U形槽鋁,結構簡單,能夠有效解決或緩解夾層玻璃的進水問題.

專利名稱:一種鎂合金表面仿銅仿金的工藝方法

專利申請號:2014101813767

公開號:CN 103924232 A

申請日:2014.04.30 公開日:2014.07.16

申請人:中南大學

一種鎂合金表面仿銅仿金的工藝方法,將研磨拋光或拉絲處理后的鎂合金浸入鈍化溶液中進行鈍化著色.所述鈍化液為水或含有至少一種正磷酸鹽的水溶液,在80～100 ℃保溫2～10 h后,用無色透明的水性樹脂封孔,然后在120～260 ℃烘烤.本發明獲得的鎂合金最終具有銅或金的光澤和質感,耐腐蝕和抗霉菌性較好.本發明工藝合理、流程簡單、成本低廉、生產過程安全、效率高、無酸性廢液排放、無需特殊設備,鈍化著色液無污染、無毒性,過程環保,所得產品外觀漂亮,具有金屬的光澤和質感,擁有較高的耐腐蝕性和抗霉菌性,具有良好的應用前景.

(陳偉文供稿)