晶圓制造人才告急，校企聯動與在職培訓缺一不可

摘要：近日，明導公司與北京理工大學合作創建了光電聯合實驗室。合作儀式期間，部分專家學者談到目前晶圓制造人才非常缺乏，人才培養迫在眉睫。本文網絡版地址：http：//www.eepw.com.cn/article/248888.htm

關鍵詞：晶圓；制造；人才；培養

DOI： 10.3969/j.issn.1005-5517.2014.6.003

人才告急

很多人認為半導體是錢的問題，其實錢不是主要問題，最主要的是人才。因為任何事情都是由人去做的。武漢新芯集成電路制造公司（XMC）行政管理處戰略與業務發展高級副總李平介紹了該公司現狀。武漢新芯作為全國三家擁有12英寸晶圓廠產能的工廠之一，現在有一千多名員工，其中工程師約三百多人，包括維護工程師、設備工程師等。按照武漢新芯制訂的發展規劃，未來產能將擴大10倍，將需要五千名工程師。“人才是一個迫在眉睫、必須要解決的問題。”

技術門檻高，人才培養難

實際上，政府也意識到人才的重要性，教育部已規劃新建九個微電子學院，專門來解決未來微電子業的人才問題。

在國家重視的同時，校企合作也非常重要。明導（Mentor Graphics）公司中國區總經理范明輝女士稱，根據協議，明導將資助北理工光電學院的課程開發、研究生學位課程專業研討會和相關研究，使學生能深入了解前沿光電技術，如光學鄰近校正（OPC）和分辨率增強技術（RET）。而“此次合作的OPC、RET，明導在中國的市占率達百分之百。”

不過，在合作過程中，明導發現中國的晶圓廠客戶和合作伙伴找人才很難找，因為門檻特別高，不光在學校需要學很多專業知識，到企業后還得花一年甚至幾年實踐才能真正掌握。所以明導與高校合作建實驗室，希望早日把工業界的知識帶進學校。

北京理工大學光電學院的李艷秋博導也認為教學難度大，需從知識傳授、實踐、研究方面展開。

光電學院已在研究生的課程里設置了OPC、RET、高分辨率成像等光刻基礎技術知識。

除此之外，還有上機實驗課，讓學生具體去設計光刻的高良率、高保真、高分辨率的掩模結構，以及OPC的結果；并讓學生到企業實習，例如北理工光電學院正有三名學生在明導上海機構里實習，“這樣一方面使學生直接參與企業在中國的研發以及技術支撐活動，同時使學生們也能得到企業的培養。”

在研究方面，“我們合作的內容圍繞著RET，還在不斷地豐富和拓展。”具體地，合作的是分辨率增強技術（RET）中的OPC，但已拓展到了包含掩模與光源、設備的協同設計（SMO），另外還考慮了偏振（SMPO），接下來還會涉及到設備也可能不是理想的，有相差，如何補償相差，來讓工藝（即生產線上做出來的芯片的光刻圖形）保真，使芯片的良率更高等課題。

企業在職培訓也需重視

但是，從學校培養出的人才，通常需要很多年的工作經驗，才能夠真正達到最佳狀態。因此企業的在職培訓也刻不容緩。

“社會上對人才培養有個誤區。學校培養學生的是知識和能力，而不是去了崗位就是一個技能型的產業人員。”北理工的李艷秋博導指出。在國外，員工入職后要在企業進行重新培養。針對不同的崗位，比如政府、企業或研究所，需要重新打造，每個階段應該都有不同的伯樂去發現和培養人才。

例如，李艷秋博導曾在一家日本著名的光學公司工作過，進入這家企業的技術人員都是光學科班出身，既使這樣，該公司每年都要給老員工培訓兩個月，像應用光學、物理光學等。培訓教師有的是公司內部的人，有的是從學校請來的。因此，咱們的本土企業也應該有這種觀念。

28nm后的光刻與傳統不同

光刻技術正在發生質變。中科院微電子所集成電路先導工藝研發中心韋亞一研究員說，新的光刻技術研發的模式改變是從28nm以后開始發生的，而我國現在最先進的工藝是28nm，再往下走是22/20、16/14nm節點。因此需要新型光刻人才。

具體地，集成電路的技術等級，例如45/40nm、32nm等，實際上是由光刻來保證的。從技術節點看，我國最先進的和國外最先進的水平相差約兩到三個技術節點。例如我國最新的是28nm制程，由SMIC（中芯國際）在上海試產，才剛剛開始。而國外Intel公司14nm已開始試產。

28nm以后，整個光刻技術研發的方法論跟傳統不同，變成以計算光刻為核心的研發循環，其中軟件起關鍵作用。此時光刻機里所有參數都可以事先輸入到軟件中，對光刻機和光刻材料進行仿真，這樣就可以事先知道實驗結果如何。而且在仿真過程中可以修改工藝，再進行循環、計算，最后找到最佳條件。

可見，高校和企業均肩負了培養新型光刻人才的使命。

小結

強大的產業才能不受制于人。我國集成電路制造業的宏偉藍圖需要大批人才，這需要高校傳授給學生最先進的知識，需要企業重視員工的再培訓。人才培養也需要各種模式創新，明導和北理工的企校合作，以及北理工在教學方面的探索，值得借鑒和推廣。

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