三和國際觸控屏事業部
ITO在電容式觸摸屏中的應用
三和國際觸控屏事業部
ITO導電膜是指采用磁控濺射的方法(ITO薄膜的制備方法有蒸發、濺射、反應離子鍍、化學氣相沉積、熱解噴涂等,但使用最多的是反應磁控濺射法),在透明有機薄膜材料上濺射透明氧化銦錫(ITO)導電薄膜鍍層并經高溫退火處理得到的高技術產品。
日本積水(鈴寅)ITO有著尖端品質,高透光性、電阻值穩定、蝕刻痕效果處理優異。

普通三層特性


高透三層特性


普通兩層特性


單層結構特性


成本透光率抗干擾組合難度功能精度普通三層較高>87%強較難點擊、手寫辨識高高透三層高>89%強較難點擊、手寫辨識高普通兩層較低>90% 較弱較容易點擊、手寫辨識高普通單層低>92%較弱容易點擊、手寫辨識低