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淺析多晶硅還原生產(chǎn)常見問題及控制對策

2013-08-29 09:29:34周修敬
河南科技 2013年12期
關(guān)鍵詞:生產(chǎn)

周修敬

(昆明冶研新材料股份有限公司,云南 曲靖 655011)

光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展導致多晶硅材料的市場需求日益增大,對多晶硅行業(yè)的繁榮與發(fā)展發(fā)揮了巨大推動作用。對于多晶硅行業(yè)來說,如何提高多晶硅生產(chǎn)質(zhì)量,促使多晶硅生產(chǎn)效率大幅提升,是這一行業(yè)發(fā)展過程中必須解決的問題。多晶硅行業(yè)要取得長遠發(fā)展,不能簡單依靠盲目擴大多晶硅生產(chǎn)規(guī)模來實現(xiàn),也不能對多晶硅生產(chǎn)技術(shù)進行盲目革新,而是需要在對現(xiàn)階段生產(chǎn)中常見問題進行認真分析、不斷改進的基礎(chǔ)上,對生產(chǎn)工藝進行不斷完善與優(yōu)化,在保證產(chǎn)品質(zhì)量的基礎(chǔ)上提高生產(chǎn)產(chǎn)量。

1 西門子法多晶硅生產(chǎn)工藝

1.1 多晶硅概念

多晶硅是單質(zhì)硅形態(tài)之一。在過冷環(huán)境中,熔融單質(zhì)硅在進行凝固時,內(nèi)部的硅原子按照金剛石晶格形態(tài)進行排列,形成諸多晶核,若這些晶核形成晶面具有不同取向的晶粒,則這些晶粒互相結(jié)合,通過結(jié)晶作用即可形成多晶硅。

1.2 西門子法多晶硅生產(chǎn)

圖1 西門子法多晶硅生產(chǎn)流程圖

1.3 多晶硅還原工藝

在西門子法多晶硅生產(chǎn)中,多晶硅的還原生產(chǎn)工藝是將氫氣與高純度三氯氫硅按一定比例進行混合,將混合物送到還原爐中,在混合物氣態(tài)下利用通電加熱使硅棒或硅芯溫度高達1050℃至1150℃,在其表面進行化學反應(yīng),致使固態(tài)硅生成并在硅棒或硅芯表面累積。隨著反應(yīng)不斷進行,硅棒或硅芯的直徑不斷增大,直到預設(shè)尺寸為止。

1.4 多晶硅還原生產(chǎn)過程中的影響因素

在多晶硅還原生產(chǎn)中,多晶硅在還原爐中發(fā)生沉積的過程通常會受到多種因素影響,主要包括電壓、爐內(nèi)壓力、還原爐結(jié)構(gòu)、氫氣與三氯氫硅的配比及流量、硅棒布置方式、停留時間、輔助系統(tǒng)、沉積溫度和硅棒電流等。這些影響因素彼此之間可以互相影響,互相制約,對于多晶硅單位產(chǎn)品的耗電量與多晶硅沉積質(zhì)量都有直接影響。

2 多晶硅還原生產(chǎn)中常見問題

2.1 硅芯表面和沉積硅之間缺乏良好粘合

在還原生產(chǎn)中,有時會發(fā)生出爐后硅芯與硅棒之間未有效粘合,導致二者脫離現(xiàn)象。之所以會出現(xiàn)這一問題,主要是因為在對硅芯進行酸洗過程中,酸洗力度不足,致使硅芯表面形成氧化層。

2.2 在生產(chǎn)過程中出現(xiàn)“硅油”

在多晶硅還原生產(chǎn)中,常會有“硅油”出現(xiàn)。“硅油”常出現(xiàn)在還原爐內(nèi)溫度較低的部位,通常在窺視孔石英片、底盤、電極、噴口與爐筒等位置沉積。一旦出現(xiàn)“硅油”現(xiàn)象,將會造成硅化合物出現(xiàn)大量損失,使多晶硅生產(chǎn)實收率大幅降低。同時,在窺視孔石英片上沉積的硅油會導致鏡片模糊,給測溫與觀察造成阻礙,對爐溫調(diào)節(jié)造成影響,在很多時候會導致硅棒上溫度過高,造成硅棒燒斷現(xiàn)象。同時,硅油吸水能力比較強,如果拆爐時爐內(nèi)有硅油存在,硅油會對空氣內(nèi)的水大量吸收,其內(nèi)部鹽酸脫離出來,從而對設(shè)備造成腐蝕,嚴重時還會造成自燃或爆炸事故。

2.3 還原生產(chǎn)生成無定形硅

在多晶硅諸多生產(chǎn)企業(yè)中,有時為追求低能耗與高產(chǎn)量,對無定形硅的形成往往不加重視,導致生產(chǎn)過程中形成大量無定形硅。無定形硅的形成一般有兩方面原因,一是因為三氯氫硅反應(yīng)溫度過低,導致無定形硅產(chǎn)生,這時還原爐中的生產(chǎn)功率相對較低,沉積速度相對較快;二是物料中二氯硅烷含量過高,導致大量無定形硅產(chǎn)生。尤其是在生產(chǎn)后期,如果將溫度控制在較高范圍內(nèi),則會造成爐內(nèi)能見度劇降,導致視鏡變黑或模糊。

2.4 倒棒問題

在多晶硅還原生產(chǎn)中,倒棒問題是極為常見的問題,特別是前期出現(xiàn)的倒棒問題,常需更換硅芯并將還原爐進行反復拆裝,極為不便。之所以會出現(xiàn)倒棒問題,主要是因為在硅芯安裝時未保持垂直狀態(tài)、硅芯不均勻、橫梁未進行良好搭接與電流過快導致熔斷等。

2.5 硅棒中存在氧化夾層

如果多晶硅的還原生產(chǎn)中有氧或水汽混入原料,則會使原料出現(xiàn)氧化或水解,導致SiO2氧化層形成并在硅棒上附著,沉積硅在這一氧化層上沉積,最終導致氧化夾層形成,很容易在多晶硅向單晶硅拉制過程中出現(xiàn)“硅跳”現(xiàn)象。

2.6 裂紋問題

在生產(chǎn)中后期與停爐時,如果物料未進行適當配比、電流過快升降或者物料流量波動較大,常會導致硅棒上出現(xiàn)裂紋問題。

2.7 高溫下還原爐水管震動問題

高溫下還原爐的水管振動不僅給在工作人員造成不適,如果震動過強還會使管道保溫脫落、管道結(jié)構(gòu)及附件破壞、彎頭與焊縫出現(xiàn)泄漏或爆炸,引發(fā)嚴重安全事故。還原爐內(nèi)高溫水系統(tǒng)的壓力及溫度對還原爐運行的穩(wěn)定具有決定性影響。如果出現(xiàn)爆管問題或高溫水泄漏現(xiàn)象,即使采取相應(yīng)措施進行處理,也很難在短時間內(nèi)對事故進行有效控制,最終導致難以預估的損失發(fā)生。

2.8 電壓擊穿造成橫梁與硅芯上出現(xiàn)亮點

在多晶硅生產(chǎn)過程中,硅芯上常會出現(xiàn)亮點,這一問題主要是因為硅芯與橫梁或石墨卡瓣之間缺乏嚴密接觸,如硅芯未按標準進行嚴格安裝、在加工硅芯時與石墨接觸位置的錐度無法完全匹配石墨、石墨卡瓣加工存在問題等。

2.9 爆米花問題

在多晶硅還原生產(chǎn)中,爆米花是必然發(fā)生的問題,主要是因為硅棒生長速度過快,或爐內(nèi)溫度太高造成。

3 相應(yīng)解決對策

3.1 加強硅芯與沉積硅間的粘合措施

由于硅芯與沉積硅間粘合不良的主要原因是硅芯酸洗不充分,因此,在對這一問題進行處理,可在加工硅芯時,將硅芯酸洗時間適當延長,或者對洗滌酸液進行定期更換。

3.2 控制“硅油”產(chǎn)生

通過上文分析可知,硅油主要出現(xiàn)在還原爐內(nèi)溫度較低處。因此,在多晶硅還原生產(chǎn)中,要對爐筒內(nèi)部溫度進行合理控制,避免硅油產(chǎn)生。在實際生產(chǎn)中可采取以下方法:一是在生產(chǎn)過程中,對爐筒中的冷卻熱水溫度進行嚴格調(diào)控,使爐筒整體溫度嚴格保持在要求范圍之內(nèi);二是在停爐之前先將冷卻水的流量適度降低,使爐筒中溫度得以提高,從而促進硅油的揮發(fā)。

3.3 控制無定形硅的形成

為避免多晶硅還原生產(chǎn)過程中出現(xiàn)無定形硅,可以從控制系統(tǒng)與進料兩方面采取相應(yīng)措施加以控制:(1)保證自動控制系統(tǒng)能夠?qū)囟葦?shù)據(jù)進行可靠而準確的控制,并且能夠根據(jù)現(xiàn)場的目測經(jīng)驗進行合理調(diào)節(jié),使溫度實現(xiàn)有效控制。(2)對進料進行控制。首先要對進料時機進行嚴格掌控。一般而言,在對硅芯加熱,使其達到足夠溫度時才可進料,同時要保證硅棒上的電流平穩(wěn)增高,避免忽高忽低現(xiàn)象出現(xiàn)。另外,要保證物料進爐流量不能出現(xiàn)過大波動;如果出現(xiàn)突然斷電或停爐現(xiàn)象,要立刻停止進料工作。

3.4 對倒棒問題進行控制

控制倒棒問題的發(fā)生,首先要對還原爐工藝參數(shù)進行不斷優(yōu)化,使爐內(nèi)熱場保持平衡,爐內(nèi)氣流保持穩(wěn)定。同時,在進行硅芯安裝時,要對硅芯垂直度加以重視,將電極頭與石墨卡瓣進行牢固固定,保持硅芯與卡瓣間的良好接觸。工作人員還應(yīng)對還原爐中硅棒生產(chǎn)狀況進行隨時觀察,對爐溫與電流進行準確監(jiān)控,如硅棒出現(xiàn)裂紋征兆,要進行及時控制并展開修復。在停爐時,要適當降低電流速度,斷電后不能將爐筒中的高溫冷卻水過早切斷,避免硅棒脆裂問題出現(xiàn)。

3.5 對硅棒中氧化夾層的形成進行控制

通過取樣檢測對入爐氫氣含水量、含氧量與純度進行嚴格控制;對硅芯進行加熱前,將爐內(nèi)空氣徹底置換,用高溫水沖洗爐筒,將上面殘留的水分沖洗干凈;開爐前對窺視孔等相關(guān)設(shè)備展開詳細檢查,保證設(shè)備的嚴密性。

3.6 裂紋控制

一般而言,電壓及電流信號的遠傳受自動化控制系統(tǒng)監(jiān)控,異常出現(xiàn)時系統(tǒng)可及時發(fā)現(xiàn)并發(fā)出警報,工作人員也可利用窺視孔對裂紋情況進行觀察。在控制裂紋產(chǎn)生時,可以將物料量適當降低,或?qū)㈦娏魃邓俣群侠砜刂疲瑥亩鴮α鸭y進行修復。如果修復不成功,要及時進行停爐處理。

3.7 高溫下還原爐水管震動的控制

還原爐通水之初,要將爐內(nèi)空氣徹底排出;在高溫水管較低位置設(shè)置排水閥,在較高位置應(yīng)設(shè)置排氣閥,將管道中的氣體及時排除;進行通水后,要對上水壓、出水流量進行準確控制,保證冷水與熱水可以緩慢而均勻的混合,同時對遠傳液體的溫度及流量進行有效監(jiān)控。

3.8 電壓擊穿造成橫梁與硅芯上出現(xiàn)亮點

當硅芯上出現(xiàn)亮點后,要對爐中物料流量與電流升高值進行合理控制,等到亮點處沉積硅量足夠,且顏色和其他硅芯接近時,再根據(jù)原工藝參數(shù)繼續(xù)生產(chǎn)。

3.9 爆米花問題的控制

在多晶硅還原生產(chǎn)中,電流要平穩(wěn)提升;要對窺視孔清晰度隨時觀察,如果在視鏡中出現(xiàn)無定形硅沉積問題,將會使遠傳溫度控制不準,同時會造成爐內(nèi)溫度比正常溫度為高。這時,現(xiàn)場工作人員可對爐內(nèi)硅棒狀況進行目測,并及時向主控操作室進行反饋,使電流值得到有效控制。

4 結(jié)論

多晶硅是光伏產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)材料,其生產(chǎn)質(zhì)量與產(chǎn)量對人們的生活及生產(chǎn)具有重大影響。在生產(chǎn)多晶硅過程中,工作人員應(yīng)對生產(chǎn)流程及生產(chǎn)工藝進行嚴格控制,在此基礎(chǔ)上對還原生產(chǎn)中經(jīng)常出現(xiàn)的問題進行分析和總結(jié),采取相應(yīng)措施避免這些問題的出現(xiàn),以便為多晶硅的還原生產(chǎn)過程提供質(zhì)量保證,促進多晶硅生產(chǎn)產(chǎn)業(yè)的健康、有序、穩(wěn)定而長遠的發(fā)展。

[1]毛俊楠.多晶硅還原工藝的流程模擬與優(yōu)化[D].天津:天津大學,2012.

[2]黃哲慶,劉春江,袁希鋼.一種新型多晶硅還原爐流動與傳熱的數(shù)值模擬[J].化工學報,2013,64(2):484-488.

[3]張康樂.一種多晶硅還原爐自動調(diào)功器硬件系統(tǒng)設(shè)計與實現(xiàn)[D].四川:電子科技大學,2009.

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