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乳化劑濃度和乳化時(shí)間對(duì)細(xì)微裂紋顯示的影響

2012-10-23 05:39:24
無(wú)損檢測(cè) 2012年2期
關(guān)鍵詞:檢測(cè)

何 晶

(中航工業(yè)飛機(jī)起落架有限責(zé)任公司 燎原分公司 理化檢測(cè)中心,陜西 城固 723200)

隨著各種型號(hào)生產(chǎn)業(yè)務(wù)的迅速發(fā)展和不斷擴(kuò)大,一些新技術(shù)、新方法在生產(chǎn)中的運(yùn)用,超音速火焰噴涂(HVOF)技術(shù)及鍍鉻磨削零件已經(jīng)越來(lái)越多地應(yīng)用在實(shí)際生產(chǎn)中。超音速火焰噴涂(HVOF)工藝有效地使用動(dòng)能和控制的熱輸出,生產(chǎn)的涂層致密性好、間隙率小、粘結(jié)性強(qiáng),有些能超過(guò)83MPa(12000PSI),氧化物含量少,有如噴涂磨光精細(xì)。涂層殘留內(nèi)部應(yīng)力小,因此噴涂的厚度是用一般的熱噴涂獲得的涂層的厚度所達(dá)不到的。超音速火焰噴涂的涂層、鍍鉻層由于其工藝特點(diǎn),經(jīng)磨削后所產(chǎn)生的裂紋非常細(xì)小,需要采用后乳化熒光滲透檢測(cè)方法進(jìn)行檢驗(yàn)。后乳化熒光滲透檢測(cè)方法具有較高的檢測(cè)靈敏度,可發(fā)現(xiàn)更細(xì)微的缺陷,能檢測(cè)淺而寬的缺陷,所以廣泛應(yīng)用于檢測(cè)疲勞裂紋、磨削裂紋、微細(xì)裂紋等表面光潔度高的零件。后乳化型滲透檢測(cè)與水洗型滲透檢測(cè)相比工藝相對(duì)復(fù)雜,主要增加了乳化工序。乳化工序是后乳化型滲透檢測(cè)的關(guān)鍵步驟,應(yīng)根據(jù)具體情況,通過(guò)試驗(yàn)確定乳化劑的濃度和乳化時(shí)間,并嚴(yán)格控制。筆者著重探討了乳化劑的濃度和乳化時(shí)間這兩個(gè)現(xiàn)場(chǎng)探傷中常變因素的影響。

1 試驗(yàn)原理

液體滲透檢測(cè)的原理是零件表面被施加滲透液后,在毛細(xì)作用下,經(jīng)過(guò)一定時(shí)間,滲透液可以滲進(jìn)表面開(kāi)口缺陷中。清除附著于零件表面上多余的滲透劑,經(jīng)干燥后再施加顯像劑,缺陷中的滲透劑在毛細(xì)現(xiàn)象的作用下重新被吸附在零件表面上,形成放大了的缺陷顯示。在黑光下觀察,缺陷處的滲透劑痕跡被顯示,從而探測(cè)出缺陷的形貌及分布狀態(tài)[1]。

2 試驗(yàn)依據(jù)

滲透檢測(cè)主要分為四個(gè)基本步驟:滲透、去除、干燥和檢驗(yàn)。后乳化型滲透檢測(cè)的去除劑是乳化劑,GJB 2367—1995《滲透檢驗(yàn)方法》標(biāo)準(zhǔn)中,要求乳化劑的濃度應(yīng)按生產(chǎn)廠家推薦的濃度配制,生產(chǎn)廠家推薦的濃度配制應(yīng)不大于20%;NDT3滲透檢查中要求鍍鉻磨削零件的乳化時(shí)間為5~20s。在實(shí)際滲透檢查中,不同的乳化劑濃度和乳化時(shí)間對(duì)零件的顯像有一定的影響。所以乳化劑的濃度和乳化時(shí)間的長(zhǎng)短直接影響到缺陷的檢出能力。

3 試驗(yàn)

3.1 主要材料及其作用

(1)后乳化型滲透劑采用ZL-2C,用于浸漬零件表面,滲透時(shí)間為30~60min。

(2)乳化劑采用ZR-10B,乳化后,滲透液液滴被水包圍,可與水一起沖走達(dá)到清洗目的。

(3)非水濕顯像劑ZP-9F對(duì)滲透劑有強(qiáng)烈的吸附作用,噴涂后可吸出殘留在缺陷中的滲透劑。

(4)折射儀,用于測(cè)量乳化劑濃度。(5)無(wú)水乙醇、脫脂棉等。

3.2 試樣的制備

使用三個(gè)含有鍍鉻表面磨削裂紋的鍍鉻自然缺陷樣件、火焰噴圖試件、靈敏度試片和不同濃度的乳化劑。

3.3 試驗(yàn)步驟

后乳化型滲透檢驗(yàn)操作程序見(jiàn)圖1。

(1)預(yù)處理:將試樣表面清洗干凈,被檢驗(yàn)的全部表面應(yīng)是清潔、干燥的無(wú)土、油、油脂、涂料和其它涂層。

就中小城市商業(yè)銀行而言,應(yīng)該真正履行其為小微企業(yè)提供融資服務(wù)的社會(huì)職能,而不能像目前一樣一味追求大型企業(yè)客戶(hù),盲目擴(kuò)張規(guī)模,這需要地方政府和城商行的共同努力。

(2)滲透:將滲透劑以浸漬方式施加在零件上,零件應(yīng)完全浸泡在滲透劑中且相互之間不能重疊。零件在滲透劑中至少浸漬10min時(shí)間(對(duì)于鍍鉻磨削件滲透劑浸漬時(shí)間至少為15min),并豎著放置至少瀝干15min。

圖1 后乳化型滲透檢驗(yàn)操作程序

(3)預(yù)水洗:用水噴槍在黑光燈下對(duì)零件進(jìn)行預(yù)水洗,使零件表面未見(jiàn)明顯的滲透劑。

(4)親水型乳化劑的施加:以浸漬方式施加乳化劑,可輕輕晃動(dòng)零件。將試樣分別放在不同濃度的乳化劑中,以5,20,30s的時(shí)間進(jìn)行乳化。

(5)零件應(yīng)徹底干燥,干燥時(shí)間應(yīng)為使零件充分干燥所需的最短時(shí)間。

(6)非水基顯像劑的顯像時(shí)間最短10min,最長(zhǎng)1h。對(duì)于鍍鉻磨削件顯像時(shí)間5~20min。

(7)對(duì)顯示的解釋和評(píng)估,在檢驗(yàn)表面要求能夠提供從黑光燈濾光片的前面到傳感器相距15英寸(38cm)處,最低可接受的黑光強(qiáng)度為1200μw/cm2。

(8)應(yīng)對(duì)所有熒光點(diǎn)部位進(jìn)行解釋。每次探傷完畢,都拍攝照片存檔。

4 試驗(yàn)結(jié)果與討論

4.1 試驗(yàn)結(jié)果

試驗(yàn)結(jié)果見(jiàn)表1。所得典型結(jié)果見(jiàn)圖2~8。

試驗(yàn)表明,乳化劑濃度和乳化時(shí)間對(duì)滲透探傷的影響十分顯著。從試驗(yàn)結(jié)果可看出,在乳化劑濃度為15%時(shí),顯示最清楚;在乳化劑濃度為10%和20%時(shí),缺陷有顯示。因此選取乳化劑濃度為14%,15%和16%時(shí)的缺陷顯示與乳化劑濃度為15%時(shí)的缺陷顯示相對(duì)比,以確定最合適的乳化劑濃度。從圖中可以看出,在乳化劑濃度為15%時(shí),乳化時(shí)間選取5~15s的缺陷顯示比20min時(shí)的缺陷顯示更為清晰。此結(jié)論在對(duì)比試驗(yàn)中也得到了驗(yàn)證。

4.2 討論

(1)乳化劑濃度對(duì)滲透探傷的影響 當(dāng)乳化劑與水混合時(shí),其混合物的粘度隨含水量而變化。當(dāng)乳化劑與水的混合含量在某一范圍時(shí),混合物的粘度有極大值,此范圍稱(chēng)為凝膠區(qū)。在滲透檢測(cè)中,用水清洗工件表面多余滲透液時(shí),需接觸大量的水,乳化劑的含水量超過(guò)凝膠區(qū),粘度變小而易被水洗掉。而在缺陷處,由于縫隙開(kāi)口小,所接觸的水量少,乳化劑中的含水量在凝膠區(qū)范圍內(nèi),形成凝膠,粘度很大,如同塞子封住缺陷開(kāi)口處,使缺陷內(nèi)的滲透液不易被水沖洗掉,能較好地保留在缺陷中,從而提高檢測(cè)的靈敏度。乳化劑的濃度應(yīng)符合材料生產(chǎn)廠家的推薦值,采用浸漬法時(shí),乳化劑的濃度一般不超過(guò)20%。

表1 乳化劑濃度與乳化時(shí)間對(duì)鍍鉻磨削零件和火焰噴涂零件探傷效果的影響

結(jié)合試驗(yàn)結(jié)果可以看出,乳化劑的濃度對(duì)乳化效果好壞有很大影響。乳化劑的濃度太低時(shí),乳化劑的乳化能力弱,乳化速度慢,因而乳化時(shí)間長(zhǎng)。當(dāng)乳化劑濃度為5%時(shí),零件清洗不干凈,熒光背景差,缺陷分辨不出。只有乳化時(shí)間在20s以上時(shí),才能勉強(qiáng)分辨出缺陷。

乳化劑的濃度越高,乳化能力越強(qiáng),乳化速度快,但乳化時(shí)間難以控制。當(dāng)乳化劑濃度達(dá)到20%時(shí),零件產(chǎn)生過(guò)洗,缺陷顯示不出。只有乳化時(shí)間在5s時(shí),才能略微顯示出缺陷,但時(shí)間太短,不好控制。

(2)乳化時(shí)間對(duì)滲透探傷的影響 乳化效果的好壞還與時(shí)間密切相關(guān)。乳化時(shí)間太短,會(huì)因乳化不足而清洗不干凈。當(dāng)乳化時(shí)間為5s時(shí),乳化不足,熒光背景差,影響缺陷的分辨。時(shí)間過(guò)長(zhǎng),易引起過(guò)乳化,使靈敏度降低。當(dāng)乳化時(shí)間為20s以上時(shí),乳化過(guò)度,缺陷顯示不出。

綜上所述,在進(jìn)行后乳化熒光滲透檢驗(yàn)的過(guò)程中,應(yīng)嚴(yán)格控制乳化劑濃度和乳化時(shí)間。經(jīng)筆者多次試驗(yàn),選取乳化劑濃度為15%,時(shí)間為10~15s,能達(dá)到最佳的配比,使缺陷的顯示最清晰,檢測(cè)靈敏度達(dá)到最大。

[1]孫殿壽.滲透檢測(cè)[M].北京:機(jī)械工業(yè)出版社,2004.

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