陣列式吸收光譜毒氣痕量濃度檢測儀研究
2012-04-12 00:00:00呂建波
現代電子技術 2012年18期
摘要：針對單組分毒氣痕量濃度檢測，采用透射式吸收光譜檢測手段，改進了單純基于Beer—Lambert定律的檢測機理，以金屬卟啉為氣敏材料設計了陣列式毒氣反應腔體，并將其與USB4000光譜儀配接，實現了毒氣痕量濃度的檢測；最后應用檢測儀測得了單組分氣態甲基磷酸二甲酯（DMMP）毒氣模擬品的吸收光譜，對光譜數據進行了Savitzky—Golay卷積平滑法濾波和一階導數法尋峰，并以最大吸收波長進行了儀器標定和DMMP痕量濃度預測實驗，實驗結果表明DMMP在0～1050ppm濃度區間預測效果滿足要求，預測值和參考值線性相關。
關鍵詞：毒氣；痕量濃度檢測；Beer—Lambert定律；吸收光譜
中圖分類號：TN919—34；TB96文獻標識碼：A文章編號：1004—373X（2012）18—0136—03
引言
目前存在的氣體檢測方法主要有3大類：濕化學法、基于氣體傳感器的傳統檢測法（不使用分光鏡）和光學檢測法（采用分光鏡）。濕化學法操作過程繁瑣，測試過程長，對于不同的檢測對象很難建立一套統一的檢測程序和方案[1]；基于氣體傳感器的傳統檢測法（不使用分光鏡）檢測精度相對較低，檢測對象也較單一；光學檢測法（借助分光鏡）具有大范圍、多組分、選擇性強、連續實時檢測、較短的響應時間和極高的靈敏性等特點，克服了濕化學法、傳統檢測法的缺點，將成為氣體檢測的理想工具[2]，已在農產品、藥物和化工產品的定性和定量分析中得到了非常廣泛的應用。
本文采用透射式吸收光譜的檢測手段，改進了單純基于Beer—Lambert定律的檢測機理，以金屬卟啉為氣敏材料設計了陣列式毒氣反應腔體，并將其與USB4000光譜儀配接，實現了對毒氣痕量濃度的檢測。
1吸收光譜的檢測機理
