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鍍鉻的方法

介紹了一種鍍鉻的方法,將待鍍工件浸入一種酸性鍍鉻液中,通過一種可得的、表面至少含有一種含銥氧化膜的電極進行電解作用。該酸性鍍鉻溶液包含一種三價鉻化合物和一種六價鉻化合物,鍍液中鉻的總的質(zhì)量濃度在60～140g/L之間。其中,六價鉻的質(zhì)量濃度為5～40g/L,且六價鉻的質(zhì)量濃度占鍍液中總的鉻的質(zhì)量濃度的5%～35%。同時鍍液中還含有50～400g/L的有機羧酸離子和不超過2mg/L的鉛離子。通過該鍍鉻溶液可以獲得外觀優(yōu)良、在很長一段時間內(nèi)穩(wěn)定的鍍鉻層。另外,該方法中的鍍鉻溶液非常容易控制。

電鍍方法和電鍍設備

該電鍍方法可以以較高的沉積速率在互相連接的凹槽內(nèi)嵌入金屬鍍層,并使其表面沒有空隙。該電鍍方法包括:(1)準備一個表面有互相連接的凹槽的基體;(2)對該基體進行第一步預處理,將其浸入含有促進劑、金屬離子和一種酸的溶液中;(3)對該基體進行第二步預處理,將其浸入含有一種添加劑的溶液中,該添加劑可以抑制第一步預處理液中的促進劑的作用,并使其表面不在含有該促進劑;(4)通過電鍍?nèi)芤簩υ摶w表面進行電鍍,該電鍍?nèi)芤褐辽侔环N金屬離子、一種酸和一種抑制劑,且不含促進劑,從而將金屬離子嵌入基體表面相互連接的凹槽內(nèi)。

電解設備和電鍍方法

研究了一個電解設備,該設備包含了一個與導電層相互連接的陰極;一個陽極,并將其放在基體的下方,使其面對基體的其他表面;一個提供電解液的裝置,它可以使得電解液在基體的其他表面和陽極之間流動。該電解設備的構建可以使得電解液通過電解液提供裝置在基體表面和陽極之間流動,同時還可以將基體表面和陽極之間的電解液排出。因此,該電解設備和電鍍方法能夠提供穩(wěn)定的電鍍。