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無線通訊用硅基微小Spiral天線的設(shè)計和制作*

2011-10-20 10:54:50郭興龍
傳感技術(shù)學(xué)報 2011年11期
關(guān)鍵詞:工藝

郭興龍,黃 靜

(南通大學(xué)電子信息學(xué)院,江蘇南通 226019)

無人駕駛飛機、衛(wèi)星等飛行器的雷達和通訊系統(tǒng)需要許多天線系統(tǒng)。而且飛行器對承載物有著嚴(yán)格的重量和尺寸限制。并且隨著微型無人機、微納衛(wèi)星的出現(xiàn),機載或星載電子系統(tǒng)的尺寸越來越小,要求天線尺寸小、重量輕。此外,當(dāng)工作波段進入毫米波和亞毫米波以后,天線結(jié)構(gòu)尺寸變得極其細小,常規(guī)的精密機械加工技術(shù)已經(jīng)不太適用,為了與微電子技術(shù)相兼容,要求在硅或砷化鎵等半導(dǎo)體基體上制備天線。這不僅有利于與系統(tǒng)集成,這些基體也具有良好的機械特性的基材[1],并且移動通訊中無線收發(fā)芯片尺寸的縮小也迫切需要新型微型天線,例如,Ericsson(愛立信)公司的單芯片藍牙組件[2],其尺寸僅為9 mm×9 mm。以往以 PCB作為天線基底材料大大限制了頻帶寬度。Hwang等在GaAs襯底上制備獲得了容易集成的微小狹縫天線[3],獲得了寬頻帶。X.L.Guo,Lee,Byunqje 等利用高阻抗介質(zhì)基底獲得了小的天線尺寸[4-5]。

Spiral天線的幾何結(jié)構(gòu)已經(jīng)研究了數(shù)年[6-8]。其主要特點是螺旋天線具有較好的寬帶,較好的半功率波束寬度(HPBW)和圓極化輻射場(CP)[9]。這些特征對于像無線局域網(wǎng)的GSM,CDMA等無線系統(tǒng)具有吸引力。使用以半導(dǎo)體作為基底共面波導(dǎo)天線為微波器件提供了寬波段、體積小、重量輕、易與載體共形,并且具有良好的阻抗匹配低輻射損耗和易于與MMICs(Microwave Monolithic Integrated Circuits)集成等明顯優(yōu)勢[10-12]。鑒于此,本文以高阻硅片為襯底,借助于微電子工藝技術(shù),運用微帶輻射機理完成了硅基微尺度Spiral天線設(shè)計和制造,為天線的系統(tǒng)集成具有一定的參考價值。

1 天線的設(shè)計和制備工藝

1.1 天線設(shè)計

天線經(jīng)過仿真、設(shè)計得到其尺寸如圖1,將直線S1進行旋轉(zhuǎn)90°仿射,然后把線連接起來形成一個形狀相同的大的外圈單元形狀和小的內(nèi)圈單元,這兩個大小單元具有自相似性。這種天線比單純的螺旋天線能增加天線阻抗[13],能夠降低諧振頻率。產(chǎn)生位移電流激勵場,并且能夠改變天線的阻抗和分布電流,從而引起天線諧振頻率的改變。

圖1 天線結(jié)構(gòu)及其尺寸示意圖

1.2 天線的制備工藝過程

制備微型天線的基片采用厚525 μm、硅片的介電常數(shù) εr=11.9,高電阻率(ρ>1 000 Ω·cm)的本征<111>拋光硅片及新型材料-多孔硅,基于微電子加工平臺兼有加工精度高和IC集成的優(yōu)勢。工藝步驟如下:首先檢查表面質(zhì)量(表面應(yīng)平整、光亮、無機械損傷),然后用一號液(27%NH4OH∶30%H2O2∶去離子水 =1 ∶2 ∶5)、二號液(37%HCl∶30%H2O2∶去離子水=1∶2∶8)清洗硅片;然后在氧化溫度1 100℃,氧氣流量500 mL/min,先干氧氧化10 min,又進行濕氧氧化45 min,最后干氧氧化10 min。得到氧化層的厚度為1.1 μm;為了形成天線的金屬貼片,采用真空蒸發(fā)淀積鉻金膜,鉻的厚度為500 ?,金的厚度為1 500 ?。繼續(xù)進行正膠光刻掩模板,前烘80 ℃、15 min,曝光時間 26 s,NaOH 顯影45 s,堅膜110℃、30 min。光刻完打底膜,再用等離子的方法去掉仍可能存在的薄層膠(氧氣流量30 mL/min,電壓900 V,時間30 s),使后道工序選擇性電鍍金的粘附性更好;為了保證電路的損耗盡可能小,減少趨膚深度,至少應(yīng)使膜厚為金屬材料趨膚深度的3~5倍,因為真空蒸發(fā)膜的厚度很薄,故采用電鍍的方法加金厚至2.5 μm,電鍍完后,用丙酮剝離正膠;最后采用負膠再次光刻掩模板。先采用Au腐蝕液(KI∶I2∶H2O=20g ∶6g∶100 mL)腐蝕金,時間30 s~45 s。再用鉻腐蝕(K2[Fe(CN6)]∶KOH ∶H2O=30 g∶5 g∶100 g)腐蝕鉻,時間 30 s~60 s。腐蝕好鉻金后去膠,得到硅基天線。該天線采用SMA連接頭饋電,結(jié)構(gòu)參數(shù)由Ansoft公司的多層平面電磁場仿真軟件HFSS 9.2進行模擬優(yōu)化。制備所得硅基天線實物如圖2,然后用SMA接頭與硅基共面波導(dǎo)的進行焊接,背面采用銅接地饋線。

圖2 天線實物圖

2 天線的模擬和實驗結(jié)果

天線S11如圖3所示,測試在杭州電子科技大學(xué)進行,采用HP公司的Agilent PNAE8363B矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀(頻率可從50 MHz~50 GHz)測量了天線的S11參數(shù)為7.6 GHz和20.2 GHz,反射系數(shù)分別為25 dB和23 dB,非常接近模擬的結(jié)果,天線在這兩個諧振點都達到了良好的匹配。測試得到的反射系數(shù)和模擬的非常吻合,這對于天線模型的建立是非常重要的。由于空氣的相對介電常數(shù)只有1,測試和模擬結(jié)果不太吻合可能是天線本身的反射及其測試設(shè)備的干擾。而在S11幅值方面的差異主要有以下兩個原因:由于工藝加工條件限制金屬層厚度不夠,未完全滿足膜厚趨膚深度的要求,其次由于SMA接頭與硅基共面波導(dǎo)的連接實現(xiàn)比較困難,焊接接頭存在也會造成附加的阻抗失配和接觸損耗。測試得到的多諧振頻點是由分形天線的本身性質(zhì)決定的。

圖3 測試得天線反射系數(shù)

天線的輻射特性在東南大學(xué)毫米波國家重點實驗室微波暗室進行測量,圖4給出了以高阻硅為基底材料的天線的E,H面輻射方向圖。從圖中可以看出,天線為全向輻射,天線的增益約為2.8 dB,實測的天線方向圖和仿真的有所差別,這是由于周圍物體的反射、阻抗失配也在一定程度上影響了天線效率的測試值。由于被測天線尺寸遠小于連接的儀器的大小,兩者之間產(chǎn)生電磁耦合也對天線的輻射特性產(chǎn)生影響,并且天線加工時引起其本身結(jié)構(gòu)的少許不對稱性導(dǎo)致電流傳播分布不均勻性也會引起天線輻射方向圖變化。

圖4 測試得到天線輻射方向圖

3 結(jié)論

本文采用微電子加工工藝在高電阻率硅片上設(shè)計和制備了微小雙波段分形天線,對天線模擬和測試結(jié)果比較吻合;測試得到天線為全方向輻射,增益約為2.8 dB,天線的S11為7.6 GHz和20.2 GHz,反射系數(shù)分別為25 dB和23 dB,此天線的設(shè)計制造有利于天線的集成和與CMOS工藝等的兼容,并且兼有加工精度高和系統(tǒng)集成的優(yōu)勢。文章還重點對天線的制作工藝進行了詳細地介紹,對于以后此類研究具有一定的參考價值。

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