６５ｎｍ后，ＤＦＭ的作用將逐步體現(xiàn)

IC芯片產(chǎn)業(yè)在進(jìn)入納米時(shí)代后，生產(chǎn)工藝復(fù)雜度和物理極限等局限開始挑戰(zhàn)被稱為定律的“Moor's Law”。同時(shí)，EDA技術(shù)的發(fā)展不但完全融入到電子產(chǎn)品的設(shè)計(jì)和定型過程中，并且開始涉足包括存檔、生產(chǎn)、制造、測試等環(huán)節(jié)，幫助Ic產(chǎn)業(yè)迎接工藝極限的挑戰(zhàn)。

作為EDA行業(yè)的佼佼者，Mentor Graphics公司一年一度的“Mentor Graphics EDA TechForum 2007”備受關(guān)注。今年的技術(shù)論壇以“洞悉您最復(fù)雜的設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)!”為主題在全球18個(gè)城市巡回開展。8月31日，Mentor Graphics的CEO Walden C.Rhines先生攜帶著包括TheMathworks、Altera、Lattice，ARM和Sun等合作伙伴來到北京。在論壇上，Mentor Graphics演示了System Design、Design for Manufacture、Functional Verification、Electronic System Level等解決方案。

依據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域和設(shè)計(jì)對象的區(qū)別，EDA技術(shù)可以細(xì)分為系統(tǒng)級設(shè)計(jì)、芯片設(shè)計(jì)、板級設(shè)計(jì)以及整機(jī)系統(tǒng)設(shè)計(jì)技術(shù)等多種流程和方法學(xué)。Walden頗為自豪的是Mentor Graphics的技術(shù)和產(chǎn)品已經(jīng)覆蓋了廣泛的EDA領(lǐng)域，但是Walden也表示沒有一家EDA公司能夠做到全能，成功的EDA公司知道如何取舍。

這其中，DFM(Design for Manufacture)是Mentor Graphics的關(guān)注重點(diǎn)。DFM因?yàn)槭窃贗c設(shè)計(jì)階段便將對生產(chǎn)工藝可能造成的影響考慮在內(nèi)，而受到歡迎，并且在去年成為EDA市場增長的主要推動力。Walden表示Mentor Graph-ics占據(jù)了DFM市場20％的份額，并且在六月成功收購Sierra Design Automation后，可以將Sierra的工具套件與Mentor Graphics的DRC和DFM工具結(jié)合起來。此外，為了提供Foundry與IC設(shè)計(jì)公司有效的溝通接口，Mentor Graph-ics已經(jīng)開始展開與Foundry和IDM廠商的密切合作。Walden介紹說對于Foundry一方面需要考慮如何幫助客戶提高產(chǎn)品的良率，另一面還需要謹(jǐn)防工藝技術(shù)泄密，Mentor Graphics針對這些提供編碼方式讓Foundry更加放心。

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝進(jìn)入65nm后，DFM的關(guān)鍵影響力將逐步體現(xiàn)，因?yàn)镺PC等分辨率增強(qiáng)技術(shù)面臨物理極限，市場對PRV(Post-RETVerification)與DFP(DFM in layout-to-silicon-pat-tern transfer)等DFM方案的需求開始加強(qiáng)。與此同時(shí)，市場的競爭也將加劇，有分析顯示2007年加入DFM市場的公司增幅高達(dá)75％，但同時(shí)也會有相當(dāng)?shù)母偁幷弑皇召徎蛘弑黄韧顺鍪袌觥?/p>