Ｍｅｎｔｏｒ新一代４５納米工藝的ＯＰＣ技術

低k1光刻(Photolithography)工藝提高了RET(Resolution En-hancement Technology)在納米設計中的應用復雜度。在45納米，更多的復雜模式、工藝的窗口修正(window correction)、以及驗證需求增加了計算負擔。在雙重壓力下，45納米工藝需要更加先進的光刻工具。