高保真度五步加載納米壓印光刻的研究
2005-04-29 00:44:03嚴樂劉紅忠丁玉成盧秉恒
西安交通大學學報 2005年9期
嚴 樂 劉紅忠 丁玉成 盧秉恒
摘要：從理論上建立了壓印光刻工藝中留膜厚度與壓印力的關系，為壓印預設曲線的建立提供了理論依據。基于液態光敏抗蝕劑在紫外光照射下發生光固化反應這一特性，對固化過程進行了詳細的分析，建立了抗蝕劑的固化深度與紫外光曝光量之間的關系。在分析了現有壓印工藝存在的問題后，提出了一個全新的壓印工藝：高保真度固化壓印，即包括特征轉移一抗蝕劑減薄一脫模回彈力釋放一保壓光固化一脫模等壓印過程。實驗結果表明，高保真度固化壓印過程與加載路線能實現復雜圖形特征的復制，從而保證了壓印圖形的保真度，并可保證圖形復制的一致性及適度留膜厚度，壓印圖形的分辨率可達100min。
關鍵詞：壓印光刻；加載；抗蝕劑；高保真度
中圖分類號：TH112；TH113．1文獻標識碼：A文章編號：0253—987X(2005)09-0933—04
